摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-18页 |
1.1 金属的腐蚀与防护 | 第9-10页 |
1.1.1 金属的腐蚀 | 第9页 |
1.1.2 金属腐蚀的防护 | 第9-10页 |
1.2 金属涂装前处理工艺的目的与研究现状 | 第10-11页 |
1.3 硅烷化处理工艺 | 第11-14页 |
1.3.1 硅烷化处理工艺的研究现状以及改性硅烷膜的研究 | 第11-12页 |
1.3.2 硅烷偶联剂的结构以及对金属材料的作用机理 | 第12-14页 |
1.4 纳米陶瓷锆盐处理工艺 | 第14-15页 |
1.4.1 纳米陶瓷锆盐处理工艺的研究现状 | 第14-15页 |
1.4.2 纳米陶瓷锆盐处理工艺的防护机理 | 第15页 |
1.5 硅锆复合处理工艺的研究现状 | 第15-16页 |
1.6 选题的目的及意义 | 第16-18页 |
第二章 实验方法与条件 | 第18-26页 |
2.1 实验试剂、材料与仪器 | 第18-20页 |
2.1.1 实验试剂 | 第18-19页 |
2.1.2 实验材料 | 第19-20页 |
2.1.3 实验仪器和设备 | 第20页 |
2.2 实验流程 | 第20-21页 |
2.3 膜层分析检测方法 | 第21-26页 |
2.3.1 膜层宏观及微观表面分析评价 | 第21-22页 |
2.3.2 膜层耐蚀性能评价 | 第22-24页 |
2.3.3 膜层附着力测试 | 第24-25页 |
2.3.4 膜层耐热性能测试 | 第25-26页 |
第三章 硅烷水解工艺的研究 | 第26-36页 |
3.1 硅烷的选择 | 第26-28页 |
3.1.1 硅烷偶联剂的结构对硅烷选择的影响 | 第26-27页 |
3.1.2 涂料(有机聚合物)对硅烷选择的影响 | 第27-28页 |
3.1.3 金属基体对硅烷选择的影响 | 第28页 |
3.2 硅烷的水解与缩合 | 第28-29页 |
3.3 硅烷水解程度检测 | 第29页 |
3.4 硅烷水解工艺参数的确定 | 第29-34页 |
3.4.1 硅烷水解介质的确定 | 第29-30页 |
3.4.2 硅烷水解液pH值的确定 | 第30-31页 |
3.4.3 硅烷水解液组分和水解时间的确定 | 第31-34页 |
3.4.4 硅烷水解温度的确定 | 第34页 |
3.5 KH550硅烷水解体系的傅立叶红外吸收光谱 | 第34-35页 |
3.6 本章小结 | 第35-36页 |
第四章 金属表面硅锆复合处理膜的制备工艺 | 第36-50页 |
4.1 硅锆复合处理液各组分配比的确定 | 第36-39页 |
4.1.1 硅锆复合处理液基础组分的选择 | 第36-37页 |
4.1.2 硅锆复合处理液的制备 | 第37-38页 |
4.1.3 初步筛选基础组分 | 第38-39页 |
4.2 正交试验和极差分析 | 第39-41页 |
4.3 金属表面硅锆复合处理最佳工艺参数的确定 | 第41-49页 |
4.3.1 硅锆复合处理液pH值对复合膜的影响 | 第41-43页 |
4.3.2 成膜温度对硅锆复合膜的影响 | 第43-45页 |
4.3.3 浸渍时间对硅锆复合膜的影响 | 第45-47页 |
4.3.4 空停时间对硅锆复合膜的影响 | 第47-48页 |
4.3.5 干燥条件对硅锆复合膜的影响 | 第48-49页 |
4.4 本章小结 | 第49-50页 |
第五章 金属表面硅锆复合膜性能及耐蚀机理分析 | 第50-62页 |
5.1 金属表面硅锆复合膜表面形貌及成分分析 | 第50-53页 |
5.1.1 硅锆复合膜外观比较 | 第50页 |
5.1.2 硅锆复合膜表面微观形貌及成分分析 | 第50-53页 |
5.2 金属表面硅锆复合膜耐蚀性能研究 | 第53-57页 |
5.2.1 硫酸铜点滴试验 | 第53-54页 |
5.2.2 电化学性能测试分析 | 第54-55页 |
5.2.3 浸泡试验 | 第55-56页 |
5.2.4 中性盐雾腐蚀试验 | 第56-57页 |
5.3 硅锆复合膜附着力测试 | 第57-58页 |
5.4 硅锆复合膜耐热性能测试 | 第58-59页 |
5.5 硅锆复合膜成膜机理及耐蚀机理的探讨 | 第59-60页 |
5.5.1 成膜机理 | 第59-60页 |
5.5.2 耐蚀机理 | 第60页 |
5.6 本章小结 | 第60-62页 |
第六章 结论与展望 | 第62-64页 |
6.1 结论 | 第62-63页 |
6.2 展望 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
作者在攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第70-71页 |