基于光学超晶格电光效应的Talbot效应研究
| 附件 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 目录 | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-20页 |
| 1.1 衍射光学器件 | 第12页 |
| 1.2 光学阵列分束器 | 第12-14页 |
| 1.3 光学超晶格 | 第14-16页 |
| 1.4 本文安排 | 第16-18页 |
| 参考文献 | 第18-20页 |
| 第二章 Talbot效应理论与线性电光效应 | 第20-37页 |
| 2.1 Talbot效应理论 | 第20-27页 |
| 2.1.1 惠更斯菲涅耳原理 | 第20-21页 |
| 2.1.2 近似处理和菲涅耳衍射 | 第21-24页 |
| 2.1.3 Talbot 成像分析 | 第24-27页 |
| 2.2 线性电光效应 | 第27-35页 |
| 2.2.1 简介 | 第27-28页 |
| 2.2.2 折射率椭球方法 | 第28-33页 |
| 2.2.3 电光效应其他理论方法 | 第33-35页 |
| 2.3 本章小结 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-37页 |
| 第三章 光学超晶格 Talbot 自成像 | 第37-51页 |
| 3.1 二维周期结构 Talbot 成像理论分析 | 第37-40页 |
| 3.2 周期性极化铌酸锂 Talbot 自成像 | 第40-42页 |
| 3.3 可调控 Talbot 自成像研究 | 第42-49页 |
| 3.3.1 观察屏位置对自成像的影响 | 第43-45页 |
| 3.3.2 外加电场对自成像的影响 | 第45-47页 |
| 3.3.3 入射角度对自成像的影响 | 第47-49页 |
| 3.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-51页 |
| 第四章 总结与展望 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-54页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第54页 |
