| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 1 引言 | 第10-16页 |
| 1.1 背景介绍 | 第10-14页 |
| 1.2 研究内容及目的 | 第14-16页 |
| 2 有机电致发光器件的基础理论 | 第16-28页 |
| 2.1 器件结构 | 第16-19页 |
| 2.1.1 单层器件 | 第16页 |
| 2.1.2 双层器件 | 第16-17页 |
| 2.1.3 三层器件 | 第17页 |
| 2.1.4 多层器件 | 第17-18页 |
| 2.1.5 有掺杂层器件 | 第18-19页 |
| 2.2 OLED 发光的物理机制 | 第19-24页 |
| 2.2.1 载流子的注入 | 第20-21页 |
| 2.2.2 载流子的运输 | 第21-23页 |
| 2.2.3 载流子的复合与发光过程 | 第23-24页 |
| 2.3 提高 OLED 器件性能的途径 | 第24-28页 |
| 2.3.1 阳极材料的选择与处理 | 第24-25页 |
| 2.3.2 阴极材料的选择与处理 | 第25页 |
| 2.3.3 界面层的修饰 | 第25-26页 |
| 2.3.4 绝缘层的插入增强载流子注入 | 第26页 |
| 2.3.5 材料的提纯 | 第26-27页 |
| 2.3.6 材料的掺杂 | 第27-28页 |
| 3 标准器件的制备及检测 | 第28-40页 |
| 3.1 标准器件所用材料 | 第29-31页 |
| 3.1.1 阳极材料 | 第29页 |
| 3.1.2 空穴传输层材料 | 第29-30页 |
| 3.1.3 电子传输层及发光层材料 | 第30-31页 |
| 3.1.4 阴极材料 | 第31页 |
| 3.2 ITO 阳极刻蚀 | 第31页 |
| 3.3 ITO 表面处理工艺 | 第31-32页 |
| 3.4 基片处理和器件制作步奏 | 第32-36页 |
| 3.4.1 基片处理步奏 | 第32-33页 |
| 3.4.2 器件制作步骤 | 第33-36页 |
| 3.5 性能测试 | 第36-37页 |
| 3.6 结果分析与小结 | 第37-40页 |
| 4 具有微腔效应的有机电致发光器件 | 第40-53页 |
| 4.1 微腔效应 | 第40-41页 |
| 4.1.1 基本原理 | 第40页 |
| 4.1.2 微腔的谐振模式 | 第40-41页 |
| 4.2 金属微腔对半峰宽及峰值波长的影响 | 第41-46页 |
| 4.2.1 引言 | 第41-42页 |
| 4.2.2 实验 | 第42页 |
| 4.2.3 结果分析与小结 | 第42-46页 |
| 4.3 金属微腔对亮度和发光效率的影响 | 第46-50页 |
| 4.3.1 引言 | 第46-47页 |
| 4.3.2 实验 | 第47页 |
| 4.3.3 结果分析与小结 | 第47-50页 |
| 4.4 空穴注入层 MoO_3 厚度对微腔结构器件的影响 | 第50-53页 |
| 4.4.1 引言 | 第50页 |
| 4.4.2 实验 | 第50页 |
| 4.4.3 结果分析与小结 | 第50-53页 |
| 5 结论 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-61页 |
| 附录 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |