| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 目录 | 第10-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-24页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·ZnO 结构 | 第13-14页 |
| ·ZnO 晶体结构 | 第13-14页 |
| ·ZnO 光电性质 | 第14-15页 |
| ·禁带宽度 | 第14页 |
| ·光学性能 | 第14页 |
| ·导电性 | 第14-15页 |
| ·ZnO 透明导电薄膜 | 第15-16页 |
| ·ZnO 透明导电薄膜 | 第15-16页 |
| ·ZnO 多层膜透明导电薄膜的研究现状 | 第16页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的应用 | 第16-18页 |
| ·太阳能电池 | 第16-17页 |
| ·平板显示器 | 第17页 |
| ·触摸屏 | 第17页 |
| ·电磁屏蔽和防静电膜 | 第17页 |
| ·节能玻璃 | 第17页 |
| ·半导体气敏传感器 | 第17-18页 |
| ·其它用途 | 第18页 |
| ·本论文的主要工作 | 第18-20页 |
| 参考文献 | 第20-24页 |
| 第2章 ZnO 薄膜的制备及表征 | 第24-36页 |
| ·磁控溅射的特点 | 第24-25页 |
| ·磁控溅射原理 | 第25-27页 |
| ·ZnO 透明导电薄膜的制备 | 第27-30页 |
| ·ZnO 陶瓷靶材的制备流程 | 第27-28页 |
| ·ZnO 陶瓷靶材的 XRD 表征 | 第28-29页 |
| ·ZnO 透明导电薄膜的制备 | 第29-30页 |
| ·ZnO 透明导电薄膜的性能表征 | 第30-31页 |
| ·霍尔(Hall)测试 | 第30-31页 |
| ·紫外-可见-近红外光谱仪 | 第31页 |
| ·ZnO 透明导电薄膜的透射谱 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 参考文献 | 第33-36页 |
| 第3章 ZnO/Cu 多层薄膜的低温制备及性能优化 | 第36-46页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·实验和测试 | 第36-37页 |
| ·样品的制备 | 第36-37页 |
| ·样品的测试 | 第37页 |
| ·结果和讨论 | 第37-43页 |
| ·ZnO/Cu 多层透明导电薄膜的结构特性 | 第37-38页 |
| ·ZnO/Cu 多层透明导电薄膜的电学性能 | 第38-41页 |
| ·ZnO/Cu 多层结构透明导电薄膜的光学性能 | 第41-43页 |
| ·小结 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-46页 |
| 第4章 ZnO/Cu/ZnO 多层透明导电薄膜的低温制备及其特性研究 | 第46-56页 |
| ·引言 | 第46-47页 |
| ·实验和测试 | 第47-48页 |
| ·样品的制备 | 第47页 |
| ·样品的测试 | 第47-48页 |
| ·结果和讨论 | 第48-53页 |
| ·ZnO/Cu/ZnO 多层透明导电薄膜的电学性能 | 第48-51页 |
| ·ZnO/Cu/ZnO 多层结构透明导电薄膜的光学性能 | 第51-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 第5章 ZnO:Se 纳米颗粒光电性能的研究 | 第56-68页 |
| ·前言 | 第56页 |
| ·试验部分 | 第56-57页 |
| ·试验试剂 | 第56页 |
| ·测试仪器 | 第56-57页 |
| ·样品的制备 | 第57页 |
| ·结果和讨论 | 第57-64页 |
| ·ZnO 和 ZnO:Se 的 XRD 图谱的分析 | 第57-58页 |
| ·ZnO 和 ZnO:Se 的 SEM 图的分析 | 第58-59页 |
| ·ZnO 和 ZnO:Se 的 Raman 光谱的分析 | 第59页 |
| ·ZnO 和 ZnO:Se 的紫外-可见光吸收谱 | 第59-60页 |
| ·ZnO 和 ZnO:Se 的光学带隙谱 | 第60-61页 |
| ·ZnO 和 ZnO:Se 的表面光电压谱 | 第61-62页 |
| ·ZnO:Se 能带原理图 | 第62-63页 |
| ·ZnO:Se 的场诱导表面光电压谱 | 第63-64页 |
| ·两响应带在不同正压下表面光电压强度变化的分析 | 第64页 |
| ·结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-68页 |
| 第6章 工作总结 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
| 攻读硕士期间完成的论文 | 第72-73页 |
