| 中文摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-30页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 磁性薄膜的发展与应用 | 第11-13页 |
| 1.3 垂直膜面磁各向异性薄膜简介 | 第13-21页 |
| 1.3.1 具有垂直膜面各向异性的非晶薄膜的发展与研究现状 | 第13-16页 |
| 1.3.2 垂直膜面各向异性的起因 | 第16-18页 |
| 1.3.3 垂直膜面各向异性的表征 | 第18-21页 |
| 1.4 垂直膜面各向异性薄膜在垂直磁记录材料中的应用 | 第21-24页 |
| 1.5 磁光效应及应用 | 第24-28页 |
| 参考文献 | 第28-30页 |
| 第二章 试验方法及原理 | 第30-42页 |
| 2.1 制备方法与原理 | 第30-35页 |
| 2.1.1 磁控溅射法 | 第30-34页 |
| 2.1.2 靶材和基片 | 第34-35页 |
| 2.2 测试仪器与方法 | 第35-38页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscopy,SEM) | 第35-36页 |
| 2.2.2 X射线衍射仪(X-Ray Diffractometry,XRD) | 第36页 |
| 2.2.3 扫描探针显微镜(scanning probe microscope,SPM) | 第36-37页 |
| 2.2.4 振动样品磁强计(Vibrating Sample Magnetometer,VSM) | 第37-38页 |
| 2.2.5 超导量子干涉仪(Superconducting Quanturn Interference DeviceMagnetometer,SQUID) | 第38页 |
| 2.3 薄膜生长理论 | 第38-41页 |
| 参考文献 | 第41-42页 |
| 第三章 Nd-Fe-B薄膜磁性能研究 | 第42-65页 |
| 3.1 引言 | 第42页 |
| 3.2 Nd-Fe-B薄膜的制备 | 第42-44页 |
| 3.3 制备条件对Nd-Fe-B薄膜性能的影响 | 第44-54页 |
| 3.3.1 薄膜形貌、磁畴结构与溅射气压的关系 | 第44-47页 |
| 3.3.2 薄膜形貌、磁畴结构与溅射温度的关系 | 第47-51页 |
| 3.3.3 薄膜形貌、磁畴结构与衬底的关系 | 第51-54页 |
| 3.4 溅射温度、薄膜厚度对Nd-Fe-B非晶薄膜易磁化方向的影响 | 第54-63页 |
| 3.5 小结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-65页 |
| 第四章 Nd-Fe-B薄膜磁光性能研究 | 第65-77页 |
| 4.1 引言 | 第65-66页 |
| 4.2 磁光克尔效应的测量原理 | 第66-69页 |
| 4.3 非晶Nd-Fe-B薄膜的磁光效应研究 | 第69-74页 |
| 4.3.1 极克尔偏转角与入射光波长的关系 | 第69-70页 |
| 4.3.2 极克尔偏转角与样品磁化状态的关系 | 第70-72页 |
| 4.3.3 极克尔偏转角与入射光类型的关系 | 第72-74页 |
| 4.4 小结 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-77页 |
| 总结 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 硕士期间发表论文 | 第79-80页 |
