摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第1章 前言 | 第10-24页 |
1.1 研究背景及意义 | 第10-11页 |
1.2 基本原理与概念 | 第11-12页 |
1.2.1 热辐射基本概念 | 第11页 |
1.2.2 选择性吸收涂层工作原理 | 第11-12页 |
1.2.3 吸收率和发射率 | 第12页 |
1.3 选择性吸收涂层的类型 | 第12-17页 |
1.3.1 本征吸收型 | 第13页 |
1.3.2 半导体-金属反射串联型 | 第13-14页 |
1.3.3 金属陶瓷涂层 | 第14-16页 |
1.3.4 微不平面 | 第16页 |
1.3.5 光干涉膜 | 第16-17页 |
1.4 选择性吸收涂层的制备方法 | 第17-21页 |
1.4.1 涂料法 | 第17页 |
1.4.2 电化学沉积法 | 第17-18页 |
1.4.3 溶胶-凝胶法 | 第18页 |
1.4.4 物理气相沉积法 | 第18-20页 |
1.4.5 离子束辅助沉积 | 第20-21页 |
1.5 影响太阳能选择性吸收涂层高温稳定性的因素 | 第21-22页 |
1.6 本文研究内容 | 第22-24页 |
第2章 实验仪器及方法 | 第24-30页 |
2.1 试样制备 | 第24-27页 |
2.1.1 镀膜设备 | 第24-25页 |
2.1.2 基体材料及清洗工艺参数 | 第25-26页 |
2.1.3 薄膜制备工艺参数 | 第26-27页 |
2.2 退火设备及工艺参数 | 第27-28页 |
2.3 结构及性能表征 | 第28-30页 |
2.3.1 相结构表征 | 第28页 |
2.3.2 表面形貌表征及元素分析 | 第28页 |
2.3.3 三维形貌表征 | 第28页 |
2.3.4 反射率 | 第28-30页 |
第3章 Ni红外反射层的高温稳定性 | 第30-44页 |
3.1 衬底温度对Ni红外反射层相结构、表面形貌和反射率的影响 | 第30-36页 |
3.1.1 对Ni红外反射层相结构的影响 | 第30-32页 |
3.1.2 对Ni红外反射层表面形貌的影响 | 第32-35页 |
3.1.3 对Ni红外反射层反射率的影响 | 第35-36页 |
3.2 衬底温度对Ni红外反射层高温稳定性的影响 | 第36-42页 |
3.2.1 对Ni红外反射层反射率高温稳定性的影响 | 第36-37页 |
3.2.2 对Ni红外反射层相结构高温稳定性的影响 | 第37-40页 |
3.2.3 对Ni红外反射层表面形貌高温稳定性的影响 | 第40-42页 |
3.3 本章小结 | 第42-44页 |
第4章 NiAl红外反射层的工艺探索 | 第44-55页 |
4.1 NiAl金属间化合物概述 | 第44-45页 |
4.2 Ni-Al合金靶制备NiAl的工艺探索 | 第45-49页 |
4.2.1 溅射功率对样品成分的影响 | 第45-46页 |
4.2.2 影响合金靶溅射的因素 | 第46-48页 |
4.2.3 薄膜中Ni/Al原子比与溅射功率关系分析 | 第48-49页 |
4.3 Ni-Al/Al镶嵌靶制备NiAl的工艺探索 | 第49-52页 |
4.3.1 Ni-Al/Al镶嵌靶的尺寸 | 第49-50页 |
4.3.2 有效溅射区域SNi-Al/SAl比值变化对样品成分的影响 | 第50-52页 |
4.4 Ni/Al镶嵌靶制备NiAl的工艺探索 | 第52-54页 |
4.4.1 Ni/Al镶嵌靶的尺寸 | 第52-53页 |
4.4.2 有效溅射区域SNi/SAl比值变化对样品成分的影响 | 第53-54页 |
4.5 本章小结 | 第54-55页 |
第5章 NiAl红外反射层的高温稳定性 | 第55-67页 |
5.1 衬底温度对NiAl红外反射层相结构、表面形貌和反射率的影响 | 第55-60页 |
5.1.1 对NiAl红外反射层相结构的影响 | 第55-56页 |
5.1.2 对NiAl红外反射层表面形貌的影响 | 第56-59页 |
5.1.3 对NiAl红外反射层反射率影响 | 第59-60页 |
5.2 衬底温度对NiAl红外反射层高温稳定性的影响 | 第60-66页 |
5.2.1 对NiAl红外反射层反射率高温稳定性的影响 | 第60-61页 |
5.2.2 对NiAl红外反射层相结构高温稳定性的影响 | 第61-63页 |
5.2.3 对NiAl红外反射层表面形貌高温稳定性的影响 | 第63-66页 |
5.3 本章小结 | 第66-67页 |
第6章 结论 | 第67-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-75页 |
个人简历 | 第75页 |