| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·钙钛矿结构氧化物的研究历史回顾 | 第10-11页 |
| ·稀土锰氧化物的结构和磁电阻 | 第11-12页 |
| ·晶体结构 | 第11-12页 |
| ·磁电阻 | 第12页 |
| ·稀土锰氧化物(CMR)效应的物理机制 | 第12-14页 |
| ·双交换模型 | 第12-13页 |
| ·Jahn-Teller畸变 | 第13-14页 |
| ·巨磁电阻材料的应用挑战 | 第14页 |
| ·本文的选题意义及主要工作 | 第14-15页 |
| 第二章 样品制备及性能测试 | 第15-21页 |
| ·薄膜及体材料的制备方法 | 第15-16页 |
| ·薄膜材料的制备方法 | 第15-16页 |
| ·体材料的制备方法 | 第16页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第16-18页 |
| ·溅射 | 第16-17页 |
| ·磁控溅射 | 第17-18页 |
| ·分析测试 | 第18-21页 |
| ·物相结构测试 | 第18页 |
| ·表面形貌的测试 | 第18-19页 |
| ·磁电阻(MR)的测试 | 第19-20页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS)测试 | 第20-21页 |
| 第三章 钙钛矿La_(1-x)Zn_xMnO_(3-δ)(x=0.3、0.5、0.7)和La_(0.7)(Sr_(1-x)Zn_x)_(0.3)MnO_(3-δ)(x=0.1,0.3,0.5,0.7)/LaAlO_3薄膜结构及巨磁电阻 | 第21-34页 |
| ·概述 | 第21页 |
| ·样品的制备 | 第21-22页 |
| ·制备靶材 | 第21页 |
| ·称底选择 | 第21-22页 |
| ·称底清洗 | 第22页 |
| ·磁控溅射镀膜 | 第22页 |
| ·退火温度 | 第22页 |
| ·结果及讨论 | 第22-33页 |
| ·块体和薄膜结构 | 第22-25页 |
| ·薄膜形貌 | 第25-28页 |
| ·薄膜的光电子能谱(XPS) | 第28-31页 |
| ·薄膜的巨磁电阻 | 第31-33页 |
| ·结论 | 第33-34页 |
| 第四章 La_(0.7)Zn_(0.3)(Mn_(1-x)Zn_x)O_3 #25(x=0.01,0.03,0.05,0.1,0.15,0.2)的结构及磁学性质 | 第34-39页 |
| ·概述 | 第34页 |
| ·样品的制备 | 第34页 |
| ·结果及讨论 | 第34-38页 |
| ·晶体结构 | 第34-35页 |
| ·扫描电镜观察结果 | 第35-37页 |
| ·磁电阻(MR) | 第37-38页 |
| ·结论 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-44页 |
| 致谢 | 第44-45页 |
| 硕士期间发表的学术论文 | 第45-46页 |
| 硕士期间参加的科研课题 | 第46页 |