光纤锥气相刻蚀的制备方法研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 光纤的发展 | 第8-9页 |
| 1.2 光纤锥的特性及应用 | 第9-10页 |
| 1.3 目前光纤锥制备的现状 | 第10-11页 |
| 1.4 本论文的研究意义 | 第11页 |
| 1.5 本章小结 | 第11页 |
| 本章参考文献 | 第11-14页 |
| 第二章 光纤锥制作工艺 | 第14-23页 |
| 2.1 光纤 | 第14-16页 |
| 2.1.1 光纤的分类 | 第14-15页 |
| 2.1.2 光纤的结构 | 第15-16页 |
| 2.2 光纤锥的结构与性能 | 第16-17页 |
| 2.3 光纤锥的制作原理、方法 | 第17-22页 |
| 2.4 本章小结 | 第22页 |
| 本章参考文献 | 第22-23页 |
| 第三章 光纤气相刻蚀的制备 | 第23-37页 |
| 3.1 气相刻蚀制备原理 | 第23-25页 |
| 3.2 光纤锥的制作 | 第25-28页 |
| 3.3 实验结果与分析 | 第28-34页 |
| 3.3.1 气相刻蚀光纤锥形成过程及分析 | 第30-32页 |
| 3.3.2 腐蚀液的配比对锥体形貌的影响 | 第32-34页 |
| 3.3.3 光纤锥体表面粗糙程度对比 | 第34页 |
| 3.3.4 光纤锥制作过程中注意事项 | 第34页 |
| 3.4 不对称光纤锥的制作 | 第34-35页 |
| 3.5 基于传统腐蚀法制作光纤锥的优点 | 第35页 |
| 3.6 本章小结 | 第35-36页 |
| 本章参考文献 | 第36-37页 |
| 第四章 光纤锥耦合特性研究 | 第37-48页 |
| 4.1 近场光纤锥的制备 | 第37-38页 |
| 4.2 耦合实验 | 第38-40页 |
| 4.3 耦合实验数据处理与分析 | 第40-46页 |
| 4.3.1 数据处理 | 第40-42页 |
| 4.3.2 软件模拟与分析 | 第42-45页 |
| 4.3.3 理论分析 | 第45-46页 |
| 4.4 本章小结 | 第46页 |
| 本章参考文献 | 第46-48页 |
| 第五章 总结与展望 | 第48-50页 |
| 5.1 总结 | 第48页 |
| 5.2 展望 | 第48-50页 |
| 硕士研究生期间发表的论文与专利 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
