| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 研究背景和意义 | 第9页 |
| 1.2 聚合物表面亲水改性方法及国内外研究现状 | 第9-13页 |
| 1.2.1 等离子体改性 | 第10-11页 |
| 1.2.2 纳米涂层改性 | 第11-12页 |
| 1.2.3 其他改性方法 | 第12-13页 |
| 1.3 纳米涂层制备方法 | 第13-16页 |
| 1.3.1 气相沉积法 | 第13-14页 |
| 1.3.2 溶胶-凝胶法 | 第14-16页 |
| 1.3.3 其他方法 | 第16页 |
| 1.4 本论文研究内容 | 第16-18页 |
| 2 表面浸润理论及溶胶形成机理 | 第18-26页 |
| 2.1 表面浸润性理论 | 第18-22页 |
| 2.1.1 固体表面浸润性 | 第18-21页 |
| 2.1.2 微流控芯片表面浸润驱动机理 | 第21-22页 |
| 2.2 溶胶形成机理 | 第22-25页 |
| 2.2.1 TiO_2溶胶的形成机理 | 第22-23页 |
| 2.2.2 SiO_2溶胶的形成机理 | 第23-25页 |
| 2.3 本章小结 | 第25-26页 |
| 3 TiO_2亲水涂层的制备、表征及亲水性研究 | 第26-43页 |
| 3.1 实验准备 | 第26-28页 |
| 3.1.1 实验试剂 | 第26-27页 |
| 3.1.2 实验仪器 | 第27页 |
| 3.1.3 实验芯片 | 第27-28页 |
| 3.2 TiO_2亲水涂层的制备 | 第28-33页 |
| 3.2.1 双络合剂TiO_2亲水涂层的制备 | 第29-31页 |
| 3.2.2 无络合剂TiO_2亲水涂层的制备 | 第31-33页 |
| 3.3 TiO_2涂层的亲水性检测 | 第33-37页 |
| 3.3.1 涂层表面接触角检测 | 第33-34页 |
| 3.3.2 接触角的片间差异性 | 第34-35页 |
| 3.3.3 接触角的时效性 | 第35-36页 |
| 3.3.4 微通道内流动稳定性 | 第36-37页 |
| 3.4 TiO_2亲水涂层的表征 | 第37-42页 |
| 3.4.1 涂层表面基团检测 | 第37-39页 |
| 3.4.2 涂层膜厚及表面形貌检测 | 第39-40页 |
| 3.4.3 涂层粘附性检测 | 第40-42页 |
| 3.5 本章小结 | 第42-43页 |
| 4 SiO_2亲水涂层的制备、表征及亲水性研究 | 第43-54页 |
| 4.1 实验试剂及器材 | 第43-44页 |
| 4.2 SiO_2亲水涂层的制备 | 第44-45页 |
| 4.2.1 SiO_2溶胶的配制 | 第44页 |
| 4.2.2 亲水涂层的制备 | 第44-45页 |
| 4.3 SiO_2涂层的亲水性检测 | 第45-50页 |
| 4.3.1 不同配比下SiO_2涂层的亲水性 | 第45-48页 |
| 4.3.2 SiO_2涂层表面接触角的片间差异性 | 第48-49页 |
| 4.3.3 SiO_2涂层表面接触角的时效性 | 第49-50页 |
| 4.3.4 SiO_2涂层改性后芯片微通道内流动稳定性 | 第50页 |
| 4.4 SiO_2亲水涂层的表征 | 第50-53页 |
| 4.4.1 SiO_2亲水涂层的表面基团检测 | 第51页 |
| 4.4.2 SiO_2亲水涂层的膜厚及表面形貌检测 | 第51-53页 |
| 4.4.3 SiO_2亲水涂层的粘附性检测 | 第53页 |
| 4.5 本章小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |