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大气压射流冷等离子体的产生和特性研究

摘要第3-5页
英文摘要第5-7页
第一章 绪论第10-27页
    1.1 高气压气体放电简介第10-13页
    1.2 大气压辉光放电研究的历史和现状第13-18页
    1.3 大气压低温射流等离子体的研究的历史和现状第18-27页
第二章 大气压射流冷等离子体发生装置及其放电特性研究第27-67页
    2.1 本实验室在大气压射流冷等离子体方面的研究基础第27-30页
    2.2 本论文在大气压射流冷等离子体发生装置及放电特性方面的研究第30-46页
    2.3 利用发射光谱诊断大气压射流冷等离子体的电子激发温度第46-53页
    2.4 利用DBD的等效电路计算大气压射流冷等离子体的放电传导电流和等离子体的电子密度第53-64页
    2.5 本章小结第64-67页
第三章 大气压射流冷等离子体灭菌实验研究第67-79页
    3.1 灭菌的基本概念和灭菌的几种常见方法第67-70页
    3.2 大气压(氩气)射流冷等离子体灭菌实验研究第70-72页
    3.3 大气压(氩气)射流冷等离子体活性成分的初步分析第72-75页
    3.4 大气压射流冷等离子体杀菌机理的分析第75-77页
    3.5 本章小节第77-79页
第四章 大气压射流(氩气)冷等离子体在聚合物表面改性应用方面的研究第79-104页
    4.1 等离子体表面改性技术的概述第79-80页
    4.2 大气压射流(氩气)冷等离子体对聚丙烯纤维表面改性的研究第80-90页
    4.3 大气压射流(氩气)冷等离子体对聚对苯二甲酸乙二酯纤维表面改性研究第90-98页
    4.4 大气压射流冷等离子体对聚合物表面改性机理分析第98-101页
    4.5 本章小节第101-104页
第五章 大气压冷射流等离子体制备类二氧化硅薄膜的初步研究第104-114页
    5.1 平行平板电极DBD放电大气压下等离子体化学气相沉积类二氧化硅薄膜的实验研究第104-109页
    5.2 大气压射流冷等离子体相沉积类二氧化硅薄膜的实验研究第109-112页
    5.3 本章小节第112-114页
第六章 论文总结第114-119页
附录第119-120页
致谢第120页

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