| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 硬质薄膜 | 第10-11页 |
| 1.1.1 硬质薄膜概念 | 第10页 |
| 1.1.2 硬质薄膜材料的分类 | 第10-11页 |
| 1.1.3 硬质薄膜刀具涂层的要求 | 第11页 |
| 1.2 多弧离子镀 | 第11-15页 |
| 1.2.1 多弧离子镀原理 | 第11-14页 |
| 1.2.2 多弧离子镀的发展 | 第14页 |
| 1.2.3 多弧离子镀的应用 | 第14-15页 |
| 1.2.4 多弧离子镀的特点 | 第15页 |
| 1.3 AlCrN涂层研究现状介绍 | 第15-18页 |
| 1.3.1 Al含量对AlCrN涂层结构与性能的影响 | 第16页 |
| 1.3.2 热稳定性 | 第16-17页 |
| 1.3.3 抗腐蚀性 | 第17页 |
| 1.3.4 力学性能 | 第17-18页 |
| 1.4 TiAlN涂层研究现状介绍 | 第18-20页 |
| 1.4.1 TiAlN涂层的结构 | 第18页 |
| 1.4.2 硬度 | 第18-19页 |
| 1.4.3 抗高温氧化性 | 第19页 |
| 1.4.4 摩擦磨损性 | 第19页 |
| 1.4.5 抗腐蚀性 | 第19-20页 |
| 1.5 AlTiSiN涂层研究现状介绍 | 第20-22页 |
| 1.5.1 显微组织结构 | 第20页 |
| 1.5.2 Si元素掺杂对涂层组织性能的影响 | 第20-22页 |
| 1.5.3 切削试验 | 第22页 |
| 1.6 展望 | 第22-23页 |
| 第二章 实验设备及方法 | 第23-29页 |
| 2.1 镀膜设备 | 第23页 |
| 2.2 镀膜前处理及薄膜沉积 | 第23-25页 |
| 2.2.1 材料选择 | 第23-24页 |
| 2.2.2 镀膜前处理 | 第24页 |
| 2.2.3 薄膜沉积 | 第24-25页 |
| 2.3 薄膜结构性能分析方法及设备 | 第25-29页 |
| 2.3.1 薄膜化学成分、物相及形貌分析 | 第25页 |
| 2.3.2 薄膜力学性能分析 | 第25-28页 |
| 2.3.3 薄膜摩擦磨损性能分析 | 第28-29页 |
| 第三章 基体偏压对AlCrTiSiN-AlCrN涂层的影响 | 第29-51页 |
| 3.1 基体偏压对涂层形貌、成分与结构的影响 | 第29-37页 |
| 3.1.1 基体偏压对涂层形貌及成分的影响 | 第29-34页 |
| 3.1.2 基体偏压对涂层相结构及化学态影响 | 第34-37页 |
| 3.2 基体偏压对膜层性能的影响 | 第37-49页 |
| 3.2.1 基体偏压对膜厚及沉积速率的影响 | 第37-39页 |
| 3.2.2 基体偏压对膜层硬度的影响 | 第39-41页 |
| 3.2.3 基体偏压对膜层结合强度的影响 | 第41-43页 |
| 3.2.4 基体偏压对膜层耐磨性能的影响 | 第43-49页 |
| 3.3 本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 氮气分压对AlCrTiSiN-AlCrN涂层的影响 | 第51-63页 |
| 4.1 氮气分压对涂层形貌、成分与结构的影响 | 第51-54页 |
| 4.1.1 氮气分压对涂层表面形貌及成分的影响 | 第51-54页 |
| 4.1.2 氮气分压对涂层相结构及化学态影响 | 第54页 |
| 4.2 氮气分压对涂层性能的影响 | 第54-62页 |
| 4.2.1 氮气分压对膜厚及沉积速率的影响 | 第54-55页 |
| 4.2.2 氮气分压对膜层硬度的影响 | 第55-56页 |
| 4.2.3 氮气分压对膜层结合强度的影响 | 第56-58页 |
| 4.2.4 氮气分压对膜层耐磨性能的影响 | 第58-62页 |
| 4.3 本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 在校研究成果 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
