致谢 | 第5-6页 |
摘要 | 第6-8页 |
Abstract | 第8-9页 |
1 绪论 | 第13-25页 |
1.1 水体中PPCPs的存在及迁移转化 | 第13-16页 |
1.1.1 给水系统中PPCPs的存在及迁移转化 | 第13-15页 |
1.1.2 天然水体及污水处理系统中PPCPs存在状况 | 第15-16页 |
1.2 水体中氟喹诺酮类污染物的去除方法 | 第16-20页 |
1.2.1 吸附 | 第17页 |
1.2.2 高级氧化 | 第17-19页 |
1.2.3 生物降解 | 第19页 |
1.2.4 氯化反应 | 第19页 |
1.2.5 氟喹诺酮类药物降解产物研究进展 | 第19-20页 |
1.3 分子印迹技术研究进展 | 第20-22页 |
1.3.1 分子印迹技术简介 | 第20页 |
1.3.2 分子印迹材料制备研究进展 | 第20-21页 |
1.3.3 分子印迹吸附材料的应用 | 第21-22页 |
1.3.4 氧化钛负载分子印迹技术研究进展 | 第22页 |
1.4 研究内容与意义 | 第22-25页 |
1.4.1 研究意义 | 第22-23页 |
1.4.2 研究内容 | 第23页 |
1.4.3 研究方案 | 第23-25页 |
2 试验材料与方法 | 第25-36页 |
2.1 试验试剂 | 第25-26页 |
2.2 试验仪器 | 第26页 |
2.3 分子印迹材料的制备方法 | 第26-31页 |
2.4 材料表征 | 第31页 |
2.5 目标污染物的仪器分析方法 | 第31-32页 |
2.6 吸附试验方法 | 第32-33页 |
2.7 分子印迹材料光催化再生试验方法 | 第33-36页 |
3 分子印迹材料吸附诺氟沙星性能研究 | 第36-61页 |
3.1 诺氟沙星分子印迹材料制备条件影响评价与优化 | 第36-39页 |
3.2 分子印迹材料表征 | 第39-40页 |
3.3 分子印迹材料对诺氟沙星的常规吸附性能研究 | 第40-46页 |
3.3.1 吸附动力学 | 第40-42页 |
3.3.2 吸附等温线 | 第42-44页 |
3.3.3 吸附热力学 | 第44-46页 |
3.4 分子印迹材料对诺氟沙星吸附的影响因素研究 | 第46-53页 |
3.4.1 材料投加量影响 | 第46页 |
3.4.2 腐殖酸影响 | 第46-47页 |
3.4.3 pH值影响 | 第47-48页 |
3.4.4 共存阴阳离子影响 | 第48-51页 |
3.4.5 自然水体中分子印迹材料对诺氟沙星的吸附研究 | 第51-53页 |
3.5 分子印迹材料对诺氟沙星的选择性吸附研究 | 第53-59页 |
3.5.1 一元吸附体系 | 第53-55页 |
3.5.2 多元吸附体系 | 第55-59页 |
3.6 本章小结 | 第59-61页 |
4 诺氟沙星分子印迹材料光催化再生性能研究 | 第61-78页 |
4.1 光催化再生反应动力学研究 | 第61-67页 |
4.2 光催化再生产物研究 | 第67-71页 |
4.3 光催化再生影响因素研究 | 第71-75页 |
4.3.1 pH值影响 | 第71-72页 |
4.3.2 MIPs用量影响 | 第72-73页 |
4.3.3 腐殖酸浓度影响 | 第73-74页 |
4.3.4 水体基质影响 | 第74-75页 |
4.3.5 反应物初始浓度影响 | 第75页 |
4.4 光催化多次再生MIPs性能研究 | 第75-76页 |
4.5 本章小结 | 第76-78页 |
5 吸附理论模型分析 | 第78-84页 |
5.1 Scatchard模型分析 | 第78-79页 |
5.2 模拟分子模型分析 | 第79-83页 |
5.2.1 MIPs吸附诺氟沙星模型 | 第80-81页 |
5.2.2 MIPs选择性吸附模型 | 第81-83页 |
5.3 本章小结 | 第83-84页 |
6 结论与建议 | 第84-86页 |
6.1 结论 | 第84-85页 |
6.2 建议 | 第85-86页 |
参考文献 | 第86-92页 |
作者简介 | 第92页 |