| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第13-26页 |
| 1.1 引言 | 第13-14页 |
| 1.2 ZnO基本特性 | 第14-18页 |
| 1.2.1 ZnO晶体结构 | 第14-16页 |
| 1.2.2 ZnO基本性质 | 第16-17页 |
| 1.2.3 ZnO的本征缺陷及掺杂 | 第17-18页 |
| 1.3 ZnO薄膜的制备方法 | 第18-21页 |
| 1.3.1 分子束外延(MBE) | 第18页 |
| 1.3.2 脉冲激光沉积(PLD) | 第18-19页 |
| 1.3.3 化学气相沉积(CVD) | 第19页 |
| 1.3.4 溶胶凝胶法(Sol-Gel) | 第19-20页 |
| 1.3.5 磁控溅射法(Magnetron Sputtering) | 第20页 |
| 1.3.6 喷雾热分解法(Spray Pyrolysis) | 第20-21页 |
| 1.3.7 化学浴沉积(CBD) | 第21页 |
| 1.4 ZnO的应用及研究现状 | 第21-25页 |
| 1.4.1 ZnO的应用 | 第21-23页 |
| 1.4.2 ZnO的研究现状 | 第23-25页 |
| 1.5 本课题研究的意义及主要内容 | 第25-26页 |
| 第2章 溶胶凝胶法与化学浴沉积法制备薄膜原理及表征技术 | 第26-38页 |
| 2.1 溶胶凝胶法制备薄膜的原理 | 第26-28页 |
| 2.1.1 溶胶凝胶法基本原理 | 第26页 |
| 2.1.2 溶胶凝胶法技术特点 | 第26-27页 |
| 2.1.3 溶胶凝胶法制备薄膜生长机理 | 第27-28页 |
| 2.2 溶胶凝胶法制备薄膜常用方法及工艺过程 | 第28-31页 |
| 2.2.1 溶胶凝胶法制备薄膜常用方法 | 第28-29页 |
| 2.2.2 溶胶凝胶法工艺过程 | 第29-31页 |
| 2.3 化学浴沉积制备薄膜的机制及特点 | 第31-32页 |
| 2.3.1 化学浴沉积薄膜的机制 | 第31-32页 |
| 2.3.2 化学浴沉积法优点 | 第32页 |
| 2.3.3 化学浴沉积法缺点 | 第32页 |
| 2.4 用于ZnO薄膜的表征技术 | 第32-38页 |
| 2.4.1 X射线衍射(XRD) | 第32-33页 |
| 2.4.2 原子力显微镜(AFM) | 第33-34页 |
| 2.4.3 透射电子显微镜(TEM) | 第34-36页 |
| 2.4.4 高分辨透射电子显微镜(HRTEM) | 第36页 |
| 2.4.5 X射线能量色散谱(EDS) | 第36-38页 |
| 第3章 溶胶凝胶法制备ZnO：Al薄膜的微观结构研究 | 第38-63页 |
| 3.1 溶胶凝胶法制备ZnO：Al薄膜样品 | 第38-39页 |
| 3.1.1 前驱溶液的合成 | 第38页 |
| 3.1.2 薄膜制备 | 第38-39页 |
| 3.1.3 薄膜热处理 | 第39页 |
| 3.2 ZnO薄膜透射电镜样品制作流程 | 第39-41页 |
| 3.2.1 平面样品制作 | 第39-40页 |
| 3.2.2 截面样品制作 | 第40页 |
| 3.2.3 薄膜样品的终减薄 | 第40-41页 |
| 3.3 不同掺Al量ZnO薄膜X射线分析 | 第41-44页 |
| 3.4 ZnO：Al薄膜的原子力显微镜分析 | 第44-46页 |
| 3.5 ZnO：Al薄膜的透射电子显微镜分析 | 第46-52页 |
| 3.5.1 ZnO：Al截面样品电镜观察 | 第46-51页 |
| 3.5.2 ZnO：Al平面样品电镜观察 | 第51-52页 |
| 3.6 ZnO：Al薄膜高分辨电子显微镜分析 | 第52-54页 |
| 3.7 ZnO：Al薄膜择优取向现象探讨 | 第54-60页 |
| 3.7.1 多晶薄膜择优取向现象 | 第54-56页 |
| 3.7.2 影响ZnO：Al薄膜择优取向的原因 | 第56-60页 |
| 3.8 ZnO：Al薄膜晶粒细化机制探讨 | 第60-62页 |
| 3.9 本章小结 | 第62-63页 |
| 第4章 化学浴沉积法制备ZnO薄膜的微观结构研究 | 第63-77页 |
| 4.1 ZnO薄膜的生长机制 | 第63-74页 |
| 4.2 ZnO薄膜缺陷及结构稳定性 | 第74-75页 |
| 4.3 本章小结 | 第75-77页 |
| 第5章 结论 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-87页 |
| 致谢 | 第87页 |
