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花状SnO2纳米线簇制备及其红外发射性能研究

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第一章 引言第10-20页
    1.1 目标隐身需求分析第10-11页
    1.2 红外隐身机理第11-14页
    1.3 红外隐身涂层中半导体填料的研究现状第14-15页
    1.4 SnO_2材料概述第15-17页
        1.4.1 SnO_2晶体的基本性质第15-16页
        1.4.2 SnO_2纳米材料的性能和应用第16页
        1.4.3 SnO_2材料的研究现状第16-17页
    1.5 本文的主要工作第17-20页
        1.5.1 主要研究内容第17-19页
        1.5.2 论文章节安排第19-20页
第二章 研究方案设计与样品表征第20-28页
    2.1 材料设计计算方案设计第20页
    2.2 材料制备方案的设计第20-23页
        2.2.1 实验方法的选择第20-21页
        2.2.2 实验中用到的化学试剂和设备第21-22页
        2.2.3 实验步骤及工艺流程第22页
        2.2.4 实验主要反应机理第22-23页
    2.3 样品的表征方法第23-27页
        2.3.1 样品的物相、微观结构和形貌表征第23-25页
        2.3.2 样品的载流子浓度和迁移率分析第25-26页
        2.3.3 样品红外发射率表征第26页
        2.3.4 Sb元素价位分析第26-27页
    2.4 本章小结第27-28页
第三章 SnO_2低发射机理分析及材料结构设计第28-66页
    3.1 半导体红外低发射机理及调制原理分析第28-38页
        3.1.1 发射率的定义第28-29页
        3.1.2 影响红外涂层发射率的因素分析第29-30页
        3.1.3 调制材料发射率的方法第30-38页
    3.2 SnO_2低发射材料结构设计第38-64页
        3.2.1 密度泛函理论简介第38-39页
        3.2.2 Materials Studio计算软件介绍第39-44页
        3.2.3 SnO_2体相材料电子结构的理论计算第44-54页
        3.2.4 SnO_2纳米线电子结构的理论研究第54-64页
    3.3 本章小结第64-66页
第四章 水热法制备SnO_2纳米线簇及其红外发射性能研究第66-88页
    4.1 本征SnO_2纳米线制备第66-69页
        4.1.1 实验方案设计第66-67页
        4.1.2 产物表征第67-68页
        4.1.3 实验结果分析第68-69页
    4.2 [OH~-]/[Sn~(4+)]对SnO_2形貌的影响第69-71页
        4.2.1 实验方案设计及结果第69-70页
        4.2.2 SEM表征及结果分析第70页
        4.2.3 红外发射率表征及结果分析第70-71页
    4.3 SnO_2的生长机理分析第71-75页
        4.3.1 SnO_2单晶生长方向分析第71-72页
        4.3.2 不同形貌的SnO_2生长机理分析第72-75页
    4.4 花状SnO_2纳米线簇工艺优化第75-81页
        4.4.1 实验工艺设计及结果第75-76页
        4.4.2 正交实验结果分析第76-78页
        4.4.3 优化工艺的分析、验证和产物表征第78-81页
    4.5 不同形貌SnO_2颗粒的红外低发射机理分析第81-85页
        4.5.1 从高电导率的角度分析红外低发射机理第81-84页
        4.5.2 从高红外散射系数角度分析低发射机理第84-85页
    4.6 本章总结第85-88页
第五章 花状SnO_2纳米线簇红外发射性能的改善研究第88-108页
    5.1 PAM辅助水热制备花状SnO_2纳米线簇及其红外发射性能研究第88-96页
        5.1.1 表面活性剂概述第88-89页
        5.1.2 实验设计第89页
        5.1.3 所制备产物的表征第89-94页
        5.1.4 PAM辅助下花状SnO_2纳米线簇生长机理及红外发射机理分析第94-96页
    5.2 Sb掺杂SnO_2纳米线簇的制备及其红外低发射性能研究第96-106页
        5.2.1 ATO概述第96-97页
        5.2.2 实验设计第97-98页
        5.2.3 分析热处理温度对产物的发射率的影响第98-99页
        5.2.4 掺杂浓度对产物红外发射率的影响第99页
        5.2.5 红外低发射率机理分析第99-106页
    5.3 本章小结第106-108页
第六章 工作总结与展望第108-112页
    6.1 工作总结第108-110页
        6.1.1 论文的主要工作第108-110页
        6.1.2 主要创新点第110页
    6.2 今后工作的展望第110-112页
参考文献第112-122页
攻读博士期间的研究成果第122-124页
致谢第124页

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