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干涉型铌酸锂基集成光开关研究

第一章 绪论第6-28页
    1.1 引言第6-7页
    1.2 集成光学发展概述第7-12页
        1.2.1 集成光学材料第8-9页
        1.2.2 集成光学器件第9-12页
    1.3 光开关概述第12-19页
        1.3.1 光开关的应用第12-13页
        1.3.2 光开关分类和介绍第13-19页
    1.4 铌酸锂电光调制器件概述第19-23页
        1.4.1 铌酸锂波导技术第19-20页
        1.4.2 铌酸锂与其他电光器件比较第20页
        1.4.3 铌酸锂光开关的结构第20-22页
        1.4.4 调制电极结构介绍第22-23页
    参考文献:第23-28页
第二章 铌酸锂电光器件基本原理第28-39页
    2.1 铌酸锂衬底第28-29页
    2.2 铌酸锂电光调制原理第29-32页
    2.3 铌酸锂Ti扩散波导制作技术第32-33页
        2.3.1 Ti扩散波导原理第32-33页
    2.4 退火质子交换波导第33-35页
        2.4.1 APE波导的晶相第33-35页
    2.5 铌酸锂的DC漂移特性第35-36页
        2.5.1 隔离层漂移第35页
        2.5.2 光致漂移第35-36页
    2.6 器件的偏振无关性第36-37页
    参考文献第37-39页
第三章 干涉型铌酸锂光开关设计第39-57页
    3.1 调制结构设计第39-40页
    3.2 单模波导的设计第40-43页
    3.3 器件结构设计第43-50页
        3.3.1 干涉驱动的非对称X结光开关第44-46页
        3.3.2 2×2平衡桥路式光开关第46-48页
        3.3.3 1×2平衡桥路式光开关第48-49页
        3.3.4 结论第49-50页
    3.4 分叉设计第50-55页
        3.4.1 S型弯曲Y分叉第51-52页
        3.4.2 波前加速器设计及其改进第52-54页
        3.4.3 场分布修正设计第54-55页
    3.5 器件设计总结第55页
    参考文献:第55-57页
第四章 铌酸锂光开关工艺及测试第57-73页
    4.1 器件制作工艺流程第57-61页
        4.1.1 基片的清洗第57-58页
        4.1.2 Ti扩散波导的制作第58-60页
        4.1.3 电极的制作第60-61页
        4.1.4 端面抛光第61页
    4.2 实验结果和器件测试第61-72页
        4.2.1 第一阶段实验及结果第61-70页
        4.2.2 第二阶段实验及结果第70-72页
    参考文献:第72-73页
第五章 总结和展望第73-74页
    5.1 总结第73页
    5.2 展望第73-74页
附录: 博士期间发表论文第74-75页
致谢第75页

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