| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-28页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第10-12页 |
| 1.2 研究的目的和内容 | 第12-13页 |
| 1.3 文献综述 | 第13-28页 |
| 2 实验方案与测试仪器 | 第28-38页 |
| 2.1 实验方案 | 第28-29页 |
| 2.2 实验设备与测试仪器 | 第29-38页 |
| 3 硅纳米线生长过程的SEM表征 | 第38-49页 |
| 3.1 硅纳米线的生长过程 | 第38-41页 |
| 3.2 硅纳米线的扭折现象 | 第41-45页 |
| 3.3 90min生长样品的硅纳米线曲率 | 第45-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 4 硅纳米线的TEM表征与生长机理 | 第49-65页 |
| 4.1 TEM验证的硅纳米线三阶段生长机理 | 第49-58页 |
| 4.2 硅纳米线在TEM的原位退火实验 | 第58-64页 |
| 4.3 本章小结 | 第64-65页 |
| 5 结论与展望 | 第65-67页 |
| 5.1 结论 | 第65-66页 |
| 5.2 未来工作建议 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-75页 |
| 附录 攻读学位期间发表的论文目录 | 第75页 |