中文摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-30页 |
1.1 碳纳米管概述 | 第10-14页 |
1.1.1 碳纳米管的结构与分类 | 第10-11页 |
1.1.2 碳纳米管的性质与应用 | 第11-14页 |
1.2 碳纳米管阵列简介 | 第14-15页 |
1.3 碳纳米管的外部修饰 | 第15-16页 |
1.4 碳纳米管的内部填充 | 第16-23页 |
1.4.1 金属和合金的填充 | 第18-19页 |
1.4.2 离子化合物的填充 | 第19-21页 |
1.4.3 半导体或者绝缘材料的填充 | 第21页 |
1.4.4 其他物质的填充 | 第21-23页 |
1.5 电化学沉积法修饰碳纳米管 | 第23-28页 |
1.5.1 电化学沉积技术简介 | 第23-24页 |
1.5.2 电化学沉积技术的几种主要应用 | 第24-25页 |
1.5.3 用电化学沉积法对碳纳米管进行外部修饰 | 第25-28页 |
1.6 课题提出背景及实验内容 | 第28-30页 |
1.6.1 课题提出背景 | 第28-29页 |
1.6.2 实验内容 | 第29-30页 |
第二章 碳纳米管阵列的制备 | 第30-43页 |
2.1 常用的碳纳米管阵列制备方法 | 第30-32页 |
2.1.1 电弧放电法 | 第30-31页 |
2.1.2 激光烧灼法 | 第31页 |
2.1.3 化学气相沉积法 | 第31-32页 |
2.2 制备碳纳米管阵列使用的试剂以及仪器 | 第32-33页 |
2.3 浮动催化剂-化学气相沉积法(FC-CVD)制备碳纳米管阵列 | 第33-36页 |
2.3.1 浮动催化剂-化学气相沉积法制备碳纳米管阵列过程 | 第33-34页 |
2.3.2 FC-CVD法制备的碳纳米管阵列的表征 | 第34-35页 |
2.3.3 结果与讨论 | 第35-36页 |
2.4 使用双催化剂上下叠加CVD法制备碳纳米管 | 第36-39页 |
2.4.1 催化剂铁-钼(Fe-Mo)纳米粒子的合成 | 第36页 |
2.4.2 碳纳米管制备过程 | 第36-37页 |
2.4.3 双催化剂上下叠加CVD法制备碳纳米管的表征 | 第37-38页 |
2.4.4 双催化剂上下叠加CVD法制备碳纳米管阵列的结果与讨论 | 第38-39页 |
2.5 电子束蒸镀催化剂法(水辅助)制备碳纳米管阵列 | 第39-42页 |
2.5.1 催化剂的制备 | 第39页 |
2.5.2 CVD生长过程 | 第39-40页 |
2.5.3 表征 | 第40-41页 |
2.5.4 结果与讨论 | 第41-42页 |
本章总结 | 第42-43页 |
第三章 碳纳米管/高分子多孔复合膜的制备 | 第43-49页 |
3.1 实验试剂、仪器 | 第43-44页 |
3.2 碳纳米管/高分子多孔复合膜的制备过程 | 第44-45页 |
3.2.1 环氧树脂前驱体的制备 | 第44页 |
3.2.2 碳纳米管/高分子多孔复合膜的制备过程 | 第44-45页 |
3.3 对于碳纳米管/环氧树脂复合膜的通透性和完整性测试 | 第45-49页 |
3.3.1 碳纳米管/环氧树脂复合膜的通透性测试 | 第45-47页 |
3.3.2 碳纳米管/环氧树脂复合膜的完整性测试 | 第47-49页 |
第四章 电化学沉积法向碳纳米管内部填充金属Au,Ag,Cu | 第49-70页 |
4.1 实验试剂、仪器 | 第49-50页 |
4.2 实验简介 | 第50页 |
4.3 实验过程 | 第50-57页 |
4.3.1 对碳纳米管/环氧树脂复合膜的处理 | 第50-51页 |
4.3.2 借助浓差扩散使金属盐前驱体溶液扩散进入碳纳米管内部 | 第51-52页 |
4.3.3 在碳管内部的电化学沉积反应 | 第52-55页 |
4.3.4 反应前后复合膜通透性的变化 | 第55-57页 |
4.4 碳管内部电化学沉积反应生成物的表征及讨论 | 第57-68页 |
4.4.1 Au填充碳纳米管的表征 | 第57-62页 |
4.4.2 Ag填充碳纳米的表征 | 第62-66页 |
4.4.3 Cu填充碳纳米管的表征 | 第66-68页 |
本章小结 | 第68-70页 |
第五章 本课题的总结以及未来研究方向 | 第70-72页 |
参考文献 | 第72-82页 |
攻读硕士期间公开发表的论文 | 第82-83页 |
致谢 | 第83-84页 |