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利用电化学沉积法制备金属内填充碳纳米管复合物

中文摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第10-30页
    1.1 碳纳米管概述第10-14页
        1.1.1 碳纳米管的结构与分类第10-11页
        1.1.2 碳纳米管的性质与应用第11-14页
    1.2 碳纳米管阵列简介第14-15页
    1.3 碳纳米管的外部修饰第15-16页
    1.4 碳纳米管的内部填充第16-23页
        1.4.1 金属和合金的填充第18-19页
        1.4.2 离子化合物的填充第19-21页
        1.4.3 半导体或者绝缘材料的填充第21页
        1.4.4 其他物质的填充第21-23页
    1.5 电化学沉积法修饰碳纳米管第23-28页
        1.5.1 电化学沉积技术简介第23-24页
        1.5.2 电化学沉积技术的几种主要应用第24-25页
        1.5.3 用电化学沉积法对碳纳米管进行外部修饰第25-28页
    1.6 课题提出背景及实验内容第28-30页
        1.6.1 课题提出背景第28-29页
        1.6.2 实验内容第29-30页
第二章 碳纳米管阵列的制备第30-43页
    2.1 常用的碳纳米管阵列制备方法第30-32页
        2.1.1 电弧放电法第30-31页
        2.1.2 激光烧灼法第31页
        2.1.3 化学气相沉积法第31-32页
    2.2 制备碳纳米管阵列使用的试剂以及仪器第32-33页
    2.3 浮动催化剂-化学气相沉积法(FC-CVD)制备碳纳米管阵列第33-36页
        2.3.1 浮动催化剂-化学气相沉积法制备碳纳米管阵列过程第33-34页
        2.3.2 FC-CVD法制备的碳纳米管阵列的表征第34-35页
        2.3.3 结果与讨论第35-36页
    2.4 使用双催化剂上下叠加CVD法制备碳纳米管第36-39页
        2.4.1 催化剂铁-钼(Fe-Mo)纳米粒子的合成第36页
        2.4.2 碳纳米管制备过程第36-37页
        2.4.3 双催化剂上下叠加CVD法制备碳纳米管的表征第37-38页
        2.4.4 双催化剂上下叠加CVD法制备碳纳米管阵列的结果与讨论第38-39页
    2.5 电子束蒸镀催化剂法(水辅助)制备碳纳米管阵列第39-42页
        2.5.1 催化剂的制备第39页
        2.5.2 CVD生长过程第39-40页
        2.5.3 表征第40-41页
        2.5.4 结果与讨论第41-42页
    本章总结第42-43页
第三章 碳纳米管/高分子多孔复合膜的制备第43-49页
    3.1 实验试剂、仪器第43-44页
    3.2 碳纳米管/高分子多孔复合膜的制备过程第44-45页
        3.2.1 环氧树脂前驱体的制备第44页
        3.2.2 碳纳米管/高分子多孔复合膜的制备过程第44-45页
    3.3 对于碳纳米管/环氧树脂复合膜的通透性和完整性测试第45-49页
        3.3.1 碳纳米管/环氧树脂复合膜的通透性测试第45-47页
        3.3.2 碳纳米管/环氧树脂复合膜的完整性测试第47-49页
第四章 电化学沉积法向碳纳米管内部填充金属Au,Ag,Cu第49-70页
    4.1 实验试剂、仪器第49-50页
    4.2 实验简介第50页
    4.3 实验过程第50-57页
        4.3.1 对碳纳米管/环氧树脂复合膜的处理第50-51页
        4.3.2 借助浓差扩散使金属盐前驱体溶液扩散进入碳纳米管内部第51-52页
        4.3.3 在碳管内部的电化学沉积反应第52-55页
        4.3.4 反应前后复合膜通透性的变化第55-57页
    4.4 碳管内部电化学沉积反应生成物的表征及讨论第57-68页
        4.4.1 Au填充碳纳米管的表征第57-62页
        4.4.2 Ag填充碳纳米的表征第62-66页
        4.4.3 Cu填充碳纳米管的表征第66-68页
    本章小结第68-70页
第五章 本课题的总结以及未来研究方向第70-72页
参考文献第72-82页
攻读硕士期间公开发表的论文第82-83页
致谢第83-84页

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