| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 类金刚石膜简介 | 第11-12页 |
| 1.2 类金刚石膜（DLC）的结构和分类 | 第12-13页 |
| 1.2.1 类金刚石膜(DLC)的结构 | 第12-13页 |
| 1.2.2 类金刚石膜(DLC)的分类 | 第13页 |
| 1.3 类金刚石膜(DLC)的生长机理 | 第13-16页 |
| 1.3.1 薄膜沉积生长过程 | 第13-14页 |
| 1.3.2 类金刚石膜(DLC)的生长模型 | 第14-16页 |
| 1.4 类金刚石膜(DLC)的性能和应用 | 第16-17页 |
| 1.4.1 机械性能和应用 | 第16页 |
| 1.4.2 光学性能和应用 | 第16页 |
| 1.4.3 生物医学性能和应用 | 第16-17页 |
| 1.4.4 其他性能和应用 | 第17页 |
| 1.5 研究目的和展望 | 第17-19页 |
| 第二章 类金刚石膜(DLC)的制备与表征 | 第19-23页 |
| 2.1 物理气相沉积法制备类金刚石膜(DLC) | 第19页 |
| 2.2 化学气相沉积法制备类金刚石膜(DLC) | 第19-20页 |
| 2.3 类金刚石膜(DLC)的表征 | 第20-23页 |
| 2.3.1 拉曼光谱仪 | 第20-21页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜 | 第21页 |
| 2.3.3 电化学腐蚀 | 第21-23页 |
| 第三章 射频磁控溅射法制备类金刚石膜（DLC）的工艺研究 | 第23-36页 |
| 3.1 磁控溅射原理 | 第23-24页 |
| 3.2 射频磁控溅射设备简介 | 第24-26页 |
| 3.3 工艺流程 | 第26-27页 |
| 3.4 工艺参数对类金刚石膜(DLC)的影响 | 第27-35页 |
| 3.4.1 工作气压对类金刚石膜(DLC)的影响 | 第27-29页 |
| 3.4.2 射频功率对类金刚石膜(DLC)的影响 | 第29-31页 |
| 3.4.3 基底温度对类金刚石膜(DLC)的影响 | 第31-33页 |
| 3.4.4 基板偏压对类金刚石膜(DLC)的影响 | 第33-35页 |
| 3.5 本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 工艺参数对类金刚石膜(DLC)表面形貌的影响 | 第36-42页 |
| 4.1 温度对类金刚石膜(DLC)表面形貌的影响 | 第36-38页 |
| 4.2 基板偏压对类金刚石膜(DLC)表面形貌的影响 | 第38-41页 |
| 4.3 本章小结 | 第41-42页 |
| 第五章 在镍钛正畸弓丝上涂覆类金刚石膜（DLC） | 第42-48页 |
| 5.1 简介 | 第42-43页 |
| 5.2 制备样品和试剂 | 第43-44页 |
| 5.3 实验结果分析 | 第44-47页 |
| 5.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第六章 总结和展望 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-57页 |
| 作者简介 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
