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基于窄带水平集算法的表面微加工工艺的三维仿真研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 概论第10-21页
    1.1 MEMS微加工技术第10-12页
        1.1.1 体微加工技术(Bulk Micromachining)第10-11页
        1.1.2 LIGA第11页
        1.1.3 表面微加工工艺(Surface Micromachining)第11-12页
    1.2 表面微加工工艺流程第12-16页
    1.3 MEMS设计第16-17页
    1.4 MEMS CAD第17-18页
    1.5 课题研究的技术与意义第18-19页
    1.6 论文主要工作第19-20页
    1.7 本章小结第20-21页
第二章 版图解析系统第21-30页
    2.1 CIF文件介绍第21-24页
    2.2 CIF版图制取第24页
    2.3 CIF版图解析第24-27页
    2.4 版图解析对照第27-29页
    2.5 本章小结第29-30页
第三章 模型和算法第30-52页
    3.1 薄膜淀积工艺第30-38页
        3.1.1 LPCVD淀积装置第33-34页
        3.1.2 LPCVD淀积原理第34-36页
        3.1.3 LPCVD仿真模型第36-38页
    3.2 刻蚀工艺第38-45页
        3.2.1 RIE刻蚀装置第39-40页
        3.2.2 RIE刻蚀原理第40-44页
        3.2.3 RIE模型第44-45页
    3.3 工艺模拟算法第45-50页
        3.3.1 水平集算法第46-48页
        3.3.2 窄带水平集算法第48-50页
    3.4 本章小结第50-52页
第四章 软件设计及其应用第52-64页
    4.1 图形用户界面第53-54页
    4.2 软件框架第54-56页
    4.3 软件仿真结果第56-63页
    4.4 本章小结第63-64页
第五章 总结与展望第64-66页
    5.1 本文的主要工作的总结第64页
    5.2 存在的主要问题第64-65页
    5.3 未来工作的展望第65-66页
致谢第66-68页
参考文献第68-72页
作者简介第72页
攻读硕士期间发表论文第72页

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