| 摘要 | 第4-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 前言 | 第15-45页 |
| 1.1 引言 | 第15页 |
| 1.2 过渡金属化合物材料的概述 | 第15-16页 |
| 1.3 2D-TMD材料的研究进展 | 第16-33页 |
| 1.3.1 过渡金属硫属化合物的制备方法 | 第17-23页 |
| 1.3.2 过渡金属硫属化合物的性质 | 第23-29页 |
| 1.3.3 过渡金属硫属化合物在电催化方面的应用 | 第29-33页 |
| 1.4 过渡金属磷化物的研究进展 | 第33-36页 |
| 1.4.1 过渡金属磷化物的制备 | 第33-35页 |
| 1.4.2 过渡金属磷化物的性质及应用 | 第35-36页 |
| 1.5 本文的立题思想与主要内容 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-45页 |
| 第二章 MoS_2、MoSe_2半导体纳米材料可控制备及性质研究 | 第45-67页 |
| 2.1 引言 | 第45页 |
| 2.2 实验部分 | 第45-49页 |
| 2.2.1 试剂与药品 | 第45-46页 |
| 2.2.2 仪器与测试 | 第46页 |
| 2.2.3 MoS_2半导体纳米材料的可控制备 | 第46-48页 |
| 2.2.3.1 MoS_2单层纳米片的制备 | 第46-47页 |
| 2.2.3.2 MoS_2量子点的制备 | 第47页 |
| 2.2.3.3 MoS_2多层纳米片层数的调控 | 第47-48页 |
| 2.2.4 MoSe_2纳米花的制备 | 第48页 |
| 2.2.5 样品的纯化 | 第48页 |
| 2.2.6 电化学测试 | 第48-49页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第49-62页 |
| 2.3.1 单层MoS_2纳米片的制备与性质 | 第49-53页 |
| 2.3.2 MoS_2量子点的制备与性质 | 第53-55页 |
| 2.3.3 多层MoS_2纳米片的层数调控与性质 | 第55-58页 |
| 2.3.4 MoSe_2纳米花的制备与表征 | 第58-60页 |
| 2.3.5 MoS_2纳米片的电催化性能研究 | 第60-62页 |
| 2.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 第三章 WS_2、WSe_2半导体纳米材料可控制备及性质研究 | 第67-83页 |
| 3.1 引言 | 第67页 |
| 3.2 实验部分 | 第67-69页 |
| 3.2.1 试剂与药品 | 第67页 |
| 3.2.2 仪器与测试 | 第67页 |
| 3.2.3 WS_2半导体纳米材料的可控制备 | 第67-68页 |
| 3.2.3.1 WS_2量子点的制备 | 第67-68页 |
| 3.2.3.2 WS_2单层纳米片的制备 | 第68页 |
| 3.2.3.3 WS_2纳米片的层数调控 | 第68页 |
| 3.2.4 WSe_2纳米花的制备 | 第68-69页 |
| 3.2.5 样品的纯化 | 第69页 |
| 3.2.6 电化学测试 | 第69页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第69-79页 |
| 3.3.1 WS_2纳米材料形貌及纳米片层数的调控 | 第69-73页 |
| 3.3.2 WS_2纳米片的结构性质研究 | 第73-74页 |
| 3.3.3 WS_2纳米片的光学性质研究 | 第74-75页 |
| 3.3.4 WSe_2纳米花的制备与表征 | 第75-77页 |
| 3.3.5 WS_2纳米片的电催化性能研究 | 第77-79页 |
| 3.4 本章小结 | 第79-81页 |
| 参考文献 | 第81-83页 |
| 第四章 Mo-S-Se、Mo-W-S三元纳米片的制备及性质研究 | 第83-101页 |
| 4.1 引言 | 第83页 |
| 4.2 实验部分 | 第83-86页 |
| 4.2.1 试剂与药品 | 第83-84页 |
| 4.2.2 仪器与测试 | 第84页 |
| 4.2.3 Se-DT-OLA作为硒源制备MoSe_2纳米花 | 第84页 |
| 4.2.4 Mo-S-Se纳米片的制备以及组分的调控 | 第84-85页 |
| 4.2.5 Mo-W-S纳米片的制备以及组分的调控 | 第85页 |
| 4.2.6 样品的纯化 | 第85-86页 |
| 4.2.7 电化学测试 | 第86页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第86-98页 |
| 4.3.1 Mo-S-Se三元纳米片的制备与性质研究 | 第86-93页 |
| 4.3.1.1 MoSSe纳米片的制备与表征 | 第86-87页 |
| 4.3.1.2 Mo-S-Se纳米片的组分调控与性质研究 | 第87-91页 |
| 4.3.1.3 Mo-S-Se纳米片的电催化性质 | 第91-93页 |
| 4.3.2 Mo-W-S纳米片的制备与性质研究 | 第93-98页 |
| 4.3.2.1 Mo_(0.5)W_(0.5)S_2纳米片的制备与表征 | 第93-95页 |
| 4.3.2.2 Mo-W-S纳米片组分的调控与性质 | 第95-97页 |
| 4.3.2.3 Mo-W-S纳米片的电催化性质 | 第97-98页 |
| 4.4 本章小结 | 第98-99页 |
| 参考文献 | 第99-101页 |
| 第五章 MoP、Ni_2P半导体纳米材料的可控制备及性质研究 | 第101-121页 |
| 5.1 引言 | 第101页 |
| 5.2 实验部分 | 第101-104页 |
| 5.2.1 试剂与药品 | 第101-102页 |
| 5.2.2 仪器与测试 | 第102页 |
| 5.2.3 MoP纳米花的制备 | 第102页 |
| 5.2.4 Ni_2P纳米花的制备 | 第102页 |
| 5.2.5 Ni_2P半导体量子点的制备及尺寸调控 | 第102-103页 |
| 5.2.6 Ni_2P半导体量子点的结晶 | 第103页 |
| 5.2.7 样品的纯化 | 第103页 |
| 5.2.8 电化学测试 | 第103-104页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第104-115页 |
| 5.3.1 MoP纳米花的制备及表征 | 第104-105页 |
| 5.3.2 Ni_2P纳米花的性质表征 | 第105-106页 |
| 5.3.3 Ni_2P量子点的制备及尺寸调控 | 第106-109页 |
| 5.3.4 Ni_2P量子点反应过程的研究 | 第109-110页 |
| 5.3.5 Ni_2P量子点催化性质的研究 | 第110-115页 |
| 5.3.5.1 Ni_2P量子点结晶及表征 | 第111-112页 |
| 5.3.5.2 不同尺寸Ni_2P量子点的电催化性质 | 第112-114页 |
| 5.3.5.3 Ni_2P量子点的电催化稳定性 | 第114-115页 |
| 5.4 本章小结 | 第115-117页 |
| 参考文献 | 第117-121页 |
| 作者简历 | 第121-123页 |
| 致谢 | 第123-124页 |
