| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 引言 | 第9-14页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-11页 |
| 1.2 研究意义 | 第11页 |
| 1.3 研究目的 | 第11-12页 |
| 1.4 研究框架 | 第12页 |
| 1.5 研究方法 | 第12-13页 |
| 1.6 本文可能的创新点 | 第13-14页 |
| 2 文献综述 | 第14-21页 |
| 2.1 关于政府补助文献综述 | 第14-16页 |
| 2.1.1 政府补助的影响因素 | 第14-15页 |
| 2.1.2 政府补助对经济后果影响的文献 | 第15-16页 |
| 2.2 政府补贴对研发投入作用的文献 | 第16-18页 |
| 2.2.1 激励效应 | 第16-17页 |
| 2.2.2 挤出效应 | 第17-18页 |
| 2.3 不同企业性质下政府补助对研发投入的影响 | 第18-19页 |
| 2.4 不同企业规模下政府补助对于企业价值的影响 | 第19页 |
| 2.5 文献综述评述 | 第19-21页 |
| 3 相关概念和政策 | 第21-25页 |
| 3.1 高技术企业相关定义 | 第21-22页 |
| 3.1.1 高技术企业的定义 | 第21页 |
| 3.1.2 高技术企业与高新技术企业的区别 | 第21-22页 |
| 3.2 政府补助的定义 | 第22页 |
| 3.3 政府补助的种类 | 第22-23页 |
| 3.4 研发投入的定义 | 第23页 |
| 3.5 国内外政府补助政策现状 | 第23-25页 |
| 3.5.1 立法保护 | 第23-24页 |
| 3.5.2 财政投入支持 | 第24页 |
| 3.5.3 税收优惠政策 | 第24-25页 |
| 4 中关村高技术企业政府补助和研发投入现状分析 | 第25-36页 |
| 4.1 中关村园区研发投入现状 | 第25-28页 |
| 4.1.1 中关村园区研发投入情况 | 第26-27页 |
| 4.1.2 中关村园区研发投入的行业分布 | 第27-28页 |
| 4.2 中关村园区与国外高新园区的横向比较 | 第28-31页 |
| 4.2.1 与国内高新产业园的对比 | 第28-30页 |
| 4.2.2 与美国硅谷和台湾新竹的对比 | 第30-31页 |
| 4.3 中关村电子制造业政府补助和研发投入现状分析 | 第31-36页 |
| 4.3.1 政府补助现状分析 | 第31-33页 |
| 4.3.2 研发投入现状分析 | 第33-35页 |
| 4.3.3 现状总结 | 第35-36页 |
| 5 案例分析—基于京东方财务数据 | 第36-44页 |
| 5.1 京东方基本情况介绍 | 第36-37页 |
| 5.2 京东方发展历程 | 第37页 |
| 5.3 京东方效益情况分析 | 第37-39页 |
| 5.4 京东方获得政府补助情况 | 第39-40页 |
| 5.5 京东方研发情况分析 | 第40-41页 |
| 5.6 案例评价总结 | 第41-44页 |
| 5.6.1 京东方获得政府支持的原因 | 第41-42页 |
| 5.6.2 京东方获得政府支持的经济后果 | 第42-44页 |
| 6 结论与建议 | 第44-48页 |
| 6.1 研究结论 | 第44-45页 |
| 6.2 对策建议 | 第45-46页 |
| 6.3 局限与不足 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 致谢 | 第52-54页 |