| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 1 绪论 | 第7-16页 |
| 1.1 氧化铬薄膜研究现状 | 第9-10页 |
| 1.2 氧化铬薄膜制备方法 | 第10-12页 |
| 1.3 电弧离子镀技术 | 第12-14页 |
| 1.4 论文研究内容及意义 | 第14-16页 |
| 2 实验设备与表征方法 | 第16-25页 |
| 2.1 实验设备及制备方案 | 第16-19页 |
| 2.2 薄膜表征方法 | 第19-25页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第19-20页 |
| 2.2.2 X射线衍射(XRD) | 第20页 |
| 2.2.3 电子探针成分分析(EPMA) | 第20-21页 |
| 2.2.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第21-22页 |
| 2.2.5 纳米压痕(Nanoindentation) | 第22-23页 |
| 2.2.6 光学性能测试 | 第23-25页 |
| 3 氧气流量对Cr-O薄膜结构及性能影响 | 第25-36页 |
| 3.1 薄膜制备 | 第25-26页 |
| 3.2 实验结果与讨论 | 第26-35页 |
| 3.2.1 薄膜表面形貌及厚度 | 第26-28页 |
| 3.2.2 薄膜相结构 | 第28-29页 |
| 3.2.3 薄膜成分 | 第29-30页 |
| 3.2.4 薄膜硬度及弹性模量 | 第30-32页 |
| 3.2.5 薄膜光学性能 | 第32-35页 |
| 3.3 本章小结 | 第35-36页 |
| 4 偏压幅值对Cr-O薄膜结构与性能影响 | 第36-49页 |
| 4.1 薄膜制备 | 第36-37页 |
| 4.2 实验结果与讨论 | 第37-48页 |
| 4.2.1 薄膜表面形貌及厚度 | 第37-39页 |
| 4.2.2 薄膜相结构 | 第39-40页 |
| 4.2.3 薄膜成分及其化学价态 | 第40-43页 |
| 4.2.4 薄膜纳米硬度与弹性模量 | 第43-45页 |
| 4.2.5 薄膜光学性能 | 第45-48页 |
| 4.3 本章小结 | 第48-49页 |
| 结论 | 第49-50页 |
| 展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |