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多光谱硫化锌表面亚波长抗反射微纳结构的研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
第1章 绪论第10-19页
    1.1 课题研究背景第10-12页
    1.2 硫化锌的性能改性研究进展第12-17页
        1.2.1 硫化锌表面增透膜系研究现状及进展第12-14页
        1.2.2 亚波长增透结构研究现状及进展第14-17页
    1.3 主要研究内容第17-19页
第2章 硫化锌抗反射亚波长结构的制备与测试方法第19-29页
    2.1 引言第19页
    2.2 抗反射亚波长结构的设计第19-20页
    2.3 硫化锌表面亚波长结构的制备第20-22页
        2.3.1 实验设备及原理第20-21页
        2.3.2 亚波长结构制备流程第21-22页
    2.4 St(?)ber法制备二氧化硅微球第22-24页
        2.4.1 St(?)ber法制备二氧化硅微球的原理第22-23页
        2.4.2 St(?)ber法制备二氧化硅微球的流程第23-24页
    2.5 氧化铝保护膜的制备第24-26页
        2.5.1 原子层沉积氧化铝薄膜反应原理第24-25页
        2.5.2 ALD沉积Al_2O_3薄膜的制备第25-26页
    2.6 硫化锌表面亚波长结构的测试分析第26-29页
        2.6.1 薄膜结构成分及厚度分析第26-27页
        2.6.2 表面形貌及刻蚀高度分析第27页
        2.6.3 二维亚波长结构的性能分析第27-29页
第3章 ZnS表面抗反射亚波长结构的设计与制备研究第29-54页
    3.1 引言第29页
    3.2 硫化锌表面抗反射微结构的理论计算与模拟设计第29-39页
        3.2.1 硫化锌表面抗反射微结构的理论计算第29-31页
        3.2.2 红外波段硫化锌表面亚波长结构的模拟设计第31-33页
        3.2.3 可见光波段硫化锌表面亚波长结构的模拟设计第33-36页
        3.2.4 具有最佳结构参数的硫化锌表面氧化铝保护膜的模拟设计第36-39页
    3.3 硫化锌表面单层二氧化硅微球的制备研究第39-46页
        3.3.1 St(?)ber法制备二氧化硅微球第39-43页
        3.3.2 垂直沉积法制备单层二氧化硅微球掩膜第43-46页
    3.4 刻蚀工艺参数对硫化锌表面亚波长结构高度的影响第46-53页
        3.4.1 刻蚀气体对刻蚀速率的影响第46-48页
        3.4.2 ICP功率对刻蚀速率的影响第48-50页
        3.4.3 RF功率对刻蚀速率的影响第50-53页
    3.5 本章小结第53-54页
第4章 氧化铝薄膜为ZnS亚波长微纳结构保护层的研究第54-69页
    4.1 引言第54页
    4.2 原子层沉积Al_2O_3保护膜的制备研究第54-64页
        4.2.1 衬底的准备第54页
        4.2.2 ALD沉积温度对沉积速率及折射率的影响第54-58页
        4.2.3 ALD沉积Al_2O_3薄膜的成分分析第58-63页
        4.2.4 ALD沉积Al_2O_3薄膜的力学性能分析第63-64页
    4.3 硫化锌表面亚波长结构的增透性能第64-66页
    4.4 硫化锌表面亚波长结构对润湿性的影响第66-67页
    4.5 本章小结第67-69页
结论第69-70页
参考文献第70-75页
攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果第75-77页
致谢第77页

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