摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
第一章 选题背景与研究思路 | 第11-39页 |
1.1 研究背景 | 第11-13页 |
1.1.1 我国能源消费现状 | 第11-12页 |
1.1.2 煤制天然气技术 | 第12-13页 |
1.2 甲烷化反应 | 第13-16页 |
1.2.1 反应原理 | 第13页 |
1.2.2 合成工艺 | 第13-16页 |
1.3 甲烷化催化剂 | 第16-25页 |
1.3.1 活性组分 | 第16-18页 |
1.3.2 载体 | 第18-20页 |
1.3.3 助剂 | 第20-21页 |
1.3.4 甲烷化反应机理 | 第21-23页 |
1.3.5 催化剂失活原因 | 第23-25页 |
1.4 碳化硅的性质及其在催化反应中的应用 | 第25-30页 |
1.4.1 物理化学性质 | 第25-26页 |
1.4.2 制备方法 | 第26-27页 |
1.4.3 在催化反应中的应用 | 第27-30页 |
1.5 论文立题与研究内容 | 第30-31页 |
1.5.1 选题依据 | 第30页 |
1.5.2 研究内容 | 第30-31页 |
参考文献 | 第31-39页 |
第二章 实验部分 | 第39-47页 |
2.1 试剂与设备 | 第39-40页 |
2.2 催化剂制备 | 第40-41页 |
2.2.1 SiC载体制备 | 第40-41页 |
2.2.2 Ce-Ni/SiC催化剂制备 | 第41页 |
2.2.3 10Ni/Al_2O_3催化剂制备 | 第41页 |
2.3 催化剂活性评价 | 第41-44页 |
2.3.1 评价装置 | 第41-44页 |
2.3.2 产物分析与数据处理 | 第44页 |
2.4 催化剂结构表征 | 第44-47页 |
2.4.1 N_2吸附 | 第44页 |
2.4.2 X射线衍射(XRD) | 第44-45页 |
2.4.3 透射电子显微镜(TEM) | 第45页 |
2.4.4 H_2程序升温还原(H_2-TPR) | 第45页 |
2.4.5 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第45页 |
2.4.6 拉曼光谱分析(Raman spectroscopy) | 第45页 |
2.4.7 热重分析(TG) | 第45-46页 |
2.4.8 O_2程序升温氧化(O_2-TPO) | 第46-47页 |
第三章 Ni/SiC催化剂制备及其高温甲烷化性能研究 | 第47-71页 |
3.1 引言 | 第47-48页 |
3.2 SiC载体结构表征 | 第48-49页 |
3.2.1 XRD | 第48页 |
3.2.2 N_2吸附脱附 | 第48-49页 |
3.3 不同Ni基催化剂的CO甲烷化反应性能 | 第49-53页 |
3.3.1 反应活性及选择性 | 第49-51页 |
3.3.2 稳定性 | 第51-53页 |
3.4 结构表征 | 第53-65页 |
3.4.1 BET | 第53-54页 |
3.4.2 XRD | 第54-56页 |
3.4.3 H_2-TPR | 第56-57页 |
3.4.4 TEM | 第57-59页 |
3.4.5 XPS | 第59-62页 |
3.4.6 Raman | 第62-63页 |
3.4.7 TG and O_2-TPO | 第63-65页 |
3.5 小结 | 第65-67页 |
参考文献 | 第67-71页 |
第四章 结论与展望 | 第71-73页 |
4.1 结论 | 第71页 |
4.2 展望 | 第71-73页 |
致谢 | 第73-75页 |
攻读硕士学位期间的研究成果 | 第75页 |