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碳化硅负载镍基催化剂高温甲烷化性能研究

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-7页
第一章 选题背景与研究思路第11-39页
    1.1 研究背景第11-13页
        1.1.1 我国能源消费现状第11-12页
        1.1.2 煤制天然气技术第12-13页
    1.2 甲烷化反应第13-16页
        1.2.1 反应原理第13页
        1.2.2 合成工艺第13-16页
    1.3 甲烷化催化剂第16-25页
        1.3.1 活性组分第16-18页
        1.3.2 载体第18-20页
        1.3.3 助剂第20-21页
        1.3.4 甲烷化反应机理第21-23页
        1.3.5 催化剂失活原因第23-25页
    1.4 碳化硅的性质及其在催化反应中的应用第25-30页
        1.4.1 物理化学性质第25-26页
        1.4.2 制备方法第26-27页
        1.4.3 在催化反应中的应用第27-30页
    1.5 论文立题与研究内容第30-31页
        1.5.1 选题依据第30页
        1.5.2 研究内容第30-31页
    参考文献第31-39页
第二章 实验部分第39-47页
    2.1 试剂与设备第39-40页
    2.2 催化剂制备第40-41页
        2.2.1 SiC载体制备第40-41页
        2.2.2 Ce-Ni/SiC催化剂制备第41页
        2.2.3 10Ni/Al_2O_3催化剂制备第41页
    2.3 催化剂活性评价第41-44页
        2.3.1 评价装置第41-44页
        2.3.2 产物分析与数据处理第44页
    2.4 催化剂结构表征第44-47页
        2.4.1 N_2吸附第44页
        2.4.2 X射线衍射(XRD)第44-45页
        2.4.3 透射电子显微镜(TEM)第45页
        2.4.4 H_2程序升温还原(H_2-TPR)第45页
        2.4.5 X射线光电子能谱分析(XPS)第45页
        2.4.6 拉曼光谱分析(Raman spectroscopy)第45页
        2.4.7 热重分析(TG)第45-46页
        2.4.8 O_2程序升温氧化(O_2-TPO)第46-47页
第三章 Ni/SiC催化剂制备及其高温甲烷化性能研究第47-71页
    3.1 引言第47-48页
    3.2 SiC载体结构表征第48-49页
        3.2.1 XRD第48页
        3.2.2 N_2吸附脱附第48-49页
    3.3 不同Ni基催化剂的CO甲烷化反应性能第49-53页
        3.3.1 反应活性及选择性第49-51页
        3.3.2 稳定性第51-53页
    3.4 结构表征第53-65页
        3.4.1 BET第53-54页
        3.4.2 XRD第54-56页
        3.4.3 H_2-TPR第56-57页
        3.4.4 TEM第57-59页
        3.4.5 XPS第59-62页
        3.4.6 Raman第62-63页
        3.4.7 TG and O_2-TPO第63-65页
    3.5 小结第65-67页
    参考文献第67-71页
第四章 结论与展望第71-73页
    4.1 结论第71页
    4.2 展望第71-73页
致谢第73-75页
攻读硕士学位期间的研究成果第75页

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