| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第15-49页 |
| 1.1 引言 | 第15页 |
| 1.2 强磁场在材料科学中的应用 | 第15-24页 |
| 1.2.1 磁场下材料的取向行为研究 | 第17-19页 |
| 1.2.2 磁场对凝固过程的影响 | 第19-22页 |
| 1.2.3 磁场对化学反应的影响 | 第22-23页 |
| 1.2.4 磁致伸缩效应 | 第23-24页 |
| 1.3 磁场下扩散相关理论及研究现状 | 第24-33页 |
| 1.3.1 扩散机制及微观理论 | 第25-28页 |
| 1.3.2 磁场下扩散行为研究现状 | 第28-30页 |
| 1.3.3 磁场中的输运过程 | 第30-33页 |
| 1.4 磁场对固态相变的影响 | 第33-40页 |
| 1.4.1 磁场对固态相变影响的热力学分析 | 第33-35页 |
| 1.4.2 磁场对固态相变过程及产物形貌的影响 | 第35-40页 |
| 1.5 高温合金概述 | 第40-47页 |
| 1.5.1 高温合金中相的组成及其作用 | 第41-43页 |
| 1.5.2 高温合金中合金元素的作用 | 第43-46页 |
| 1.5.3 高温合金磁场热处理研究现状 | 第46-47页 |
| 1.6 本研究工作的目的、意义及内容 | 第47-49页 |
| 第二章 静磁场对DZ483合金固态相变行为及力学性能的影响 | 第49-70页 |
| 2.1 引言 | 第49页 |
| 2.2 实验材料与方法 | 第49-53页 |
| 2.2.1 磁场热处理装置及试样制备 | 第49-51页 |
| 2.2.2 磁场热处理工艺 | 第51-52页 |
| 2.2.3 拉伸试样的制备 | 第52-53页 |
| 2.2.4 组织分析与测试方法 | 第53页 |
| 2.3 磁场对DZ483合金固态相变的影响 | 第53-63页 |
| 2.3.1 DZ483合金的铸态组织 | 第53-54页 |
| 2.3.2 DZ483合金的热处理组织 | 第54-55页 |
| 2.3.3 不同磁场强度作用下的热处理组织 | 第55-57页 |
| 2.3.4 磁场时效处理时间对DZ483合金组织形貌的影响 | 第57-63页 |
| 2.4 磁场热处理对 γ′相形貌的影响 | 第63-64页 |
| 2.5 磁场热处理对DZ483合金力学性能的影响 | 第64-68页 |
| 2.6 本章小结 | 第68-70页 |
| 第三章 交变磁场对DZ483合金固态相变行为及力学性能的影响 | 第70-88页 |
| 3.1 引言 | 第70页 |
| 3.2 实验材料与方法 | 第70-73页 |
| 3.2.1 交变磁场热处理实验装置及试样制备 | 第70-71页 |
| 3.2.2 交变磁场热处理工艺 | 第71-72页 |
| 3.2.3 拉伸试样的制备 | 第72页 |
| 3.2.4 组织分析与测试方法 | 第72-73页 |
| 3.3 交变磁场对DZ483合金固态相变组织的影响 | 第73-82页 |
| 3.3.1 DZ483合金的铸态组织 | 第73页 |
| 3.3.2 交变磁场对DZ483合金固溶处理组织的影响 | 第73-76页 |
| 3.3.3 交变磁场对DZ483合金时效处理组织的影响 | 第76-79页 |
| 3.3.4 不同时效温度下交变磁场对DZ483合金组织的影响 | 第79-82页 |
| 3.4 交变磁场对DZ483合金力学性能的影响 | 第82-87页 |
| 3.5 本章小结 | 第87-88页 |
| 第四章 磁场作用下Ni-Al、Ni-Cr扩散行为研究 | 第88-128页 |
| 4.1 引言 | 第88页 |
| 4.2 实验材料与方法 | 第88-96页 |
| 4.2.1 固/固扩散偶的制备方法 | 第88-93页 |
| 4.2.2 磁场扩散退火实验装置及处理方案 | 第93-95页 |
| 4.2.3 静磁场下高锰酸钾水溶液扩散方案 | 第95-96页 |
| 4.3 静磁场对Al在Ni中扩散行为的影响 | 第96-103页 |
| 4.3.1 Ni/Ni-6.3at.%Al扩散界面形貌及能谱分析 | 第96-98页 |
| 4.3.2 强磁场对Al原子扩散系数的影响 | 第98-102页 |
| 4.3.3 强磁场对频率因子和扩散激活能的影响 | 第102-103页 |
| 4.4 静磁场对Ni-Al反应扩散的影响 | 第103-112页 |
| 4.4.1 Ni-Al扩散偶反应层形貌 | 第103-105页 |
| 4.4.2 Ni-Al扩散反应层的组织结构 | 第105-107页 |
| 4.4.3 静磁场对Ni-Al反应扩散界面的影响 | 第107-109页 |
| 4.4.4 静磁场对Ni-Al扩散界面反应层生长动力学的影响 | 第109-112页 |
| 4.5 不同磁场方向对Ni-Cr扩散行为的影响 | 第112-117页 |
| 4.5.1 Ni/Ni-10at.%Cr扩散界面形貌 | 第112-113页 |
| 4.5.2 磁场方向对Cr原子扩散系数的影响 | 第113-116页 |
| 4.5.3 磁场方向对频率因子和扩散激活能的影响 | 第116-117页 |
| 4.6 静磁场对高锰酸钾水溶液扩散的影响 | 第117-118页 |
| 4.7 静磁场对原子扩散影响分析 | 第118-122页 |
| 4.8 交变磁场对Ni-Cr扩散行为的影响 | 第122-126页 |
| 4.8.1 Ni/Ni-10wt.%Cr扩散界面形貌 | 第122页 |
| 4.8.2 交变磁场对Cr原子扩散系数的影响 | 第122-124页 |
| 4.8.3 交变磁场对频率因子和扩散激活能的影响 | 第124-125页 |
| 4.8.4 交变磁场对原子扩散影响分析 | 第125-126页 |
| 4.9 本章小结 | 第126-128页 |
| 第五章 结论与展望 | 第128-130页 |
| 5.1 结论 | 第128-129页 |
| 5.2 展望 | 第129-130页 |
| 本论文创新点 | 第130-131页 |
| 参考文献 | 第131-145页 |
| 作者在攻读博士学位期间公开发表的论文 | 第145-146页 |
| 作者在攻读博士学位期间所作的项目 | 第146-147页 |
| 致谢 | 第147-148页 |
