| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第10-11页 |
| 1.2 本课题的研究进展 | 第11-16页 |
| 1.2.1 微波衰减材料 | 第11-14页 |
| 1.2.2 磁控溅射技术 | 第14-16页 |
| 1.2.3 微波衰减材料与磁控溅射技术 | 第16页 |
| 1.3 本文主要研究内容 | 第16页 |
| 1.4 技术方案 | 第16-18页 |
| 第二章 FeSiAl薄膜的制备条件及分析方法 | 第18-30页 |
| 2.1 靶材和样品的制备工艺 | 第18-23页 |
| 2.1.1 靶材的制备工艺 | 第18-21页 |
| 2.1.2 薄膜样品的制备工艺 | 第21-23页 |
| 2.2 分析与测试薄膜的实验方法 | 第23-28页 |
| 2.2.1 膜厚的测试 | 第23-25页 |
| 2.2.2 衰减性能的测试 | 第25-27页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜及能谱分析设备 | 第27-28页 |
| 2.3 实验方法介绍 | 第28-30页 |
| 第三章 FeSiAl衰减薄膜的制备及衰减性能测试 | 第30-52页 |
| 3.1 引言 | 第30-32页 |
| 3.1.1 磁控溅射铁磁性靶材存在的问题 | 第30-31页 |
| 3.1.2 磁控溅射铁磁性靶材问题的解决方法 | 第31-32页 |
| 3.2 靶材制备 | 第32-43页 |
| 3.2.1 热压方式制备靶材 | 第32-37页 |
| 3.2.2 模压、等静压方式制备靶材 | 第37-41页 |
| 3.2.3 其他方式制备靶材 | 第41-43页 |
| 3.3 FeSiAl衰减薄膜的制备 | 第43-51页 |
| 3.3.1 铬靶的成膜情况 | 第43-47页 |
| 3.3.2 FeSiAl靶材的成膜情况 | 第47-51页 |
| 3.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 FeSiAl衰减薄膜的形貌及成分分析 | 第52-72页 |
| 4.1 FeSiAl衰减薄膜的形貌分析 | 第52-55页 |
| 4.1.1 磁控溅射原始膜的形貌分析 | 第52-53页 |
| 4.1.2 磁控溅射-湿氢膜的形貌分析 | 第53页 |
| 4.1.3 磁控溅射-湿氢-干氢膜的形貌分析 | 第53-54页 |
| 4.1.4 磁控溅射-干氢膜的形貌分析 | 第54-55页 |
| 4.2 FeSiAl衰减薄膜的成分分析 | 第55-58页 |
| 4.2.1 磁控溅射原始膜的成分分析 | 第55-56页 |
| 4.2.2 磁控溅射-湿氢膜的成分分析 | 第56-57页 |
| 4.2.3 磁控溅射-湿氢-干氢膜的成分分析 | 第57-58页 |
| 4.2.4 磁控溅射-干氢膜的成分分析 | 第58页 |
| 4.3 FeSiAl衰减薄膜的形貌及成分分析的讨论 | 第58-69页 |
| 4.3.1 磁控溅射FeSiAl衰减薄膜均匀度 | 第58-61页 |
| 4.3.2 烧结工艺对磁控溅射FeSiAl衰减薄膜的影响 | 第61-69页 |
| 4.4 本章小结 | 第69-72页 |
| 第五章 结论与展望 | 第72-74页 |
| 5.1 结论 | 第72-73页 |
| 5.2 展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 致谢 | 第78-80页 |
| 个人简历、在学期间发表的论文与研究成果 | 第80页 |