摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第1章 绪论 | 第10-24页 |
·全固态激光器的简介 | 第11页 |
·锁模技术的简介 | 第11-13页 |
·新型二维材料可饱和吸收体的研究进展 | 第13-21页 |
·拓扑绝缘体 | 第13-18页 |
·二硫化钼 | 第18-21页 |
·对当前研究进展的总结 | 第21页 |
·本课题研究意义及主要内容 | 第21-24页 |
第2章 可饱和吸收体锁模激光器的基本理论 | 第24-34页 |
·锁模的基本原理 | 第24-27页 |
·被动锁模激光器的速率方程 | 第27-29页 |
·可饱和吸收体的特性参数 | 第29-30页 |
·Z-scan法测定可饱和吸收体的特性参数 | 第30-32页 |
·本章小结 | 第32-34页 |
第3章 二维材料可饱和吸收体的制备 | 第34-48页 |
·制备纳米材料的常用方法 | 第34-35页 |
·拓扑绝缘体可饱和吸收体的制备及表征 | 第35-44页 |
·利用水热插层剥离法制备拓扑绝缘体碲化铋可饱和吸收体 | 第35-38页 |
·拓扑绝缘体碲化铋可饱和吸收体的各项表征 | 第38-41页 |
·利用多元醇法制备拓扑绝缘体硒化铋可饱和吸收体 | 第41-44页 |
·二硫化钼可饱和吸收体的制备及表征 | 第44-46页 |
·本章小结 | 第46-48页 |
第4章 基于二维新材料的全固态Nd:YVO_4调Q锁模激光器 | 第48-62页 |
·Nd:YVO_4晶体的介绍 | 第48-49页 |
·折叠腔Nd:YVO_4激光器 | 第49-53页 |
·谐振腔设计理论 | 第49-51页 |
·折叠腔Nd:YVO_4激光器的搭建 | 第51-53页 |
·基于二维材料可饱和吸收体的调Q锁模实验 | 第53-60页 |
·反射式碲化铋可饱和吸收体 | 第53-55页 |
·透射式硒化铋可饱和吸收体 | 第55-58页 |
·反射式二硫化钼可饱和吸收体 | 第58-59页 |
·实验结果分析与讨论 | 第59-60页 |
·本章小结 | 第60-62页 |
结论及展望 | 第62-64页 |
参考文献 | 第64-68页 |
攻读硕士学位期间完成的学术成果 | 第68-70页 |
致谢 | 第70页 |