| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-28页 |
| ·磁控溅射技术 | 第7-13页 |
| ·ZnO简介 | 第13-19页 |
| ·ZnO的掺杂 | 第19-26页 |
| ·本论文研究的目的、意义以及主要内容 | 第26-28页 |
| 第二章 实验设备及薄膜的制备、表征和测量 | 第28-34页 |
| ·实验材料及基底预处理 | 第28页 |
| ·镀膜设备及工艺 | 第28-30页 |
| ·薄膜结构性能分析 | 第30-32页 |
| ·等离子体参数测量 | 第32-34页 |
| 第三章 ZnO薄膜的结构及其性能研究 | 第34-87页 |
| ·无掺杂氧化锌制备 | 第34-57页 |
| ·p-type氧化锌 | 第57-71页 |
| ·退火处理 | 第71-75页 |
| ·等离子体参数诊断 | 第75-84页 |
| ·ICP辅助强流脉冲磁控溅射制备p-ZnO的机理分析 | 第84-87页 |
| 第四章 结论和展望 | 第87-89页 |
| ·本文的主要研究成果与结论 | 第87页 |
| ·创新点 | 第87页 |
| ·进一步的工作展望 | 第87-89页 |
| 致谢 | 第89-90页 |
| 参考文献 | 第90-99页 |
| 硕士期间发表的学术论文 | 第99页 |