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脉冲激光沉积法制备MgxZn1-xO1-ySy四元合金薄膜及其性能研究

摘要第1-7页
Abstract第7-9页
目录第9-12页
1 绪论第12-22页
   ·半导体光电薄膜材料研究概况第12-13页
     ·半导体材料第12页
     ·半导体薄膜材料在光电领域的应用第12-13页
   ·ZnO薄膜的研究历史和发展现状第13-15页
     ·ZnO的基本性质第13-14页
     ·ZnO材料的研究历史第14-15页
     ·ZnO薄膜的发展现状第15页
   ·ZnO掺杂的研究概况第15-17页
   ·Mg和S掺杂ZnO薄膜的研究现状第17-19页
     ·Mg_xZn_(1-x)O薄膜的特性与研究现状第17-18页
     ·ZnO_(1-y)S_y薄膜的特性与研究现状第18-19页
   ·本课题的选题背景和研究内容第19-22页
     ·选题背景第19-20页
     ·研究内容第20-22页
2 外延薄膜的制备工艺与表征测试方法第22-40页
   ·半导体薄膜的制备方法简介第22-25页
     ·金属有机化学气相沉积法(MOCVD)第22-23页
     ·分子束外延法(MBE)第23-24页
     ·溅射法(Sputter)第24页
     ·脉冲激光沉积(PLD)第24-25页
   ·脉冲激光沉积(PLD)技术第25-30页
     ·脉冲激光沉积概述第25页
     ·脉冲激光沉积的原理第25-27页
     ·脉冲激光沉积系统第27-30页
   ·Mg_xZn_(1-x)O_(1-y)S_y薄膜的制备工艺第30-33页
     ·Mg_xZn_(1-x)O_(1-y)S_y靶材的制备第30-31页
     ·Mg_xZn_(1-x)O_(1-y)S_y薄膜的制备第31-33页
   ·Mg_xZn_(1-x)O_(1-y)S_y薄膜的表征手段第33-40页
     ·原子力显微镜(Atomic Force Microscopy,AFM)第33-34页
     ·X射线衍射(X-Ray Diffraction,XRD)第34-35页
     ·紫外-可见分光光度计(UV-VIS Spectrophotometer)第35页
     ·X射线光电子能谱(X-Ray Photoelectron Spectroscopy,XPS)第35-37页
     ·拉曼光谱(Raman Spectrum)第37-40页
3 沉积氧压对Mg_xZn_(1-x)O_(1-y)S_y薄膜结构和性能的影响第40-51页
   ·样品的制备第40页
   ·实验结果与讨论第40-50页
     ·沉积氧压对Mg_xZn_(1-x)O_(1-y)S_y薄膜表面形貌的影响第40-44页
     ·沉积氧压对Mg_xZn_(1-x)O_(1-y)S_y薄膜相结构的影响第44-45页
     ·沉积氧压对Mg_xZn_(1-x)O_(1-y)S_y薄膜成分的影响第45-47页
     ·沉积氧压对Mg_xZn_(1-x)O_(1-y)S_y薄膜光学性能的影响第47-50页
   ·本章小结第50-51页
4 衬底温度对Mg_xZn_(1-x)O_(1-y)S_y薄膜结构和性能的影响第51-63页
   ·样品的制备第51-52页
   ·实验结果与讨论第52-62页
     ·衬底温度对Mg_xZn_(1-x)O_(1-y)S_y薄膜表面形貌的影响第52-55页
     ·衬底温度对Mg_xZn_(1-x)O_(1-y)S_y薄膜相结构的影响第55-56页
     ·衬底温度对Mg_xZn_(1-x)O_(1-y)S_y薄膜成分的影响第56-60页
     ·衬底温度对Mg_xZn_(1-x)O_(1-y)S_y薄膜光学性能的影响第60-62页
   ·本章小结第62-63页
5 不同Mg和S含量的单相Mg_xZn_(1-x)O_(1-y)S_y薄膜性能讨论第63-80页
   ·不同Mg含量Mg_xZn_(1-x)O_(1-y)S_y薄膜的制备和结果讨论第63-71页
     ·样品的制备第63页
     ·结果讨论第63-71页
   ·不同S含量Mg_xZn_(1-x)O_(1-y)S_y薄膜的制备和结果讨论第71-78页
     ·硫含量变化对薄膜晶格常数的影响第72-74页
     ·不同硫含量薄膜XPS结果讨论第74-76页
     ·不同硫含量薄膜光学性质讨论第76-78页
   ·本章小结第78-80页
结论第80-82页
参考文献第82-88页
致谢第88-89页

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