瓷砖行星端面抛光机运动及结构研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 1 引言 | 第7-14页 |
| ·论文研究背景与意义 | 第7-9页 |
| ·大平面机械抛光技术的研究 | 第9-10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-12页 |
| ·课题来源 | 第12页 |
| ·课题主要研究内容 | 第12-13页 |
| ·本章小结 | 第13-14页 |
| 2 行星端面磨抛光运动特性分析 | 第14-25页 |
| ·行星端面磨和普通抛光运动对比分析 | 第14-19页 |
| ·行星端面磨抛光运动速度特性分析 | 第19-20页 |
| ·行星端面磨顺逆磨对比分析 | 第20-21页 |
| ·各主要运动参数对磨纹的影响 | 第21-23页 |
| ·本章小结 | 第23-25页 |
| 3 行星端面磨抛光均匀性分析 | 第25-34页 |
| ·行星端面磨抛光均匀性数学模型的建立 | 第25-27页 |
| ·行星端面磨抛光均匀性仿真 | 第27-30页 |
| ·各主要运动参数对抛光质量的影响 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-34页 |
| 4 主轴变形对抛光质量影响分析 | 第34-45页 |
| ·主轴抛光过程有限元模型的建立 | 第34-39页 |
| ·主轴抛光过程有限元结果分析 | 第39-40页 |
| ·电机启动时主轴有限元模型的建立 | 第40-43页 |
| ·电机启动时主轴有限元结果分析 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 5 主轴结构优化设计分析 | 第45-55页 |
| ·主轴结构优化设计 | 第45-53页 |
| ·优化后主轴对抛光质量影响分析 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 6 机架对抛光质量影响分析及结构优化 | 第55-70页 |
| ·机架与主轴接触分析 | 第55-56页 |
| ·机架有限元模型的建立 | 第56-59页 |
| ·机架有限元结果分析 | 第59-62页 |
| ·机架结构优化设计 | 第62-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 7 总结与展望 | 第70-71页 |
| ·总结 | 第70页 |
| ·展望 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 附录A：攻读硕士期间发表学术论文情况 | 第76页 |
