| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-23页 |
| ·前言 | 第7-8页 |
| ·石墨烯的结构和性能 | 第8-14页 |
| ·石墨烯的结构 | 第8-9页 |
| ·石墨烯的性能 | 第9-14页 |
| ·电学性能 | 第9-11页 |
| ·光学性能 | 第11-12页 |
| ·力学性能 | 第12-13页 |
| ·热学性能 | 第13-14页 |
| ·化学性能 | 第14页 |
| ·石墨烯的制备方法 | 第14-20页 |
| ·机械剥离法 | 第15页 |
| ·外延生长法 | 第15-16页 |
| ·有机合成法 | 第16页 |
| ·溶剂热法 | 第16页 |
| ·氧化还原法 | 第16-18页 |
| ·化学气相沉积法 | 第18-20页 |
| ·石墨烯在腐蚀防护领域的研究现状 | 第20-22页 |
| ·本论文的研究目的和研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章 实验材料、仪器和测试方法 | 第23-28页 |
| ·实验材料 | 第23页 |
| ·实验仪器及其用途 | 第23-25页 |
| ·制备仪器与设备 | 第23-24页 |
| ·分析仪器与设备 | 第24-25页 |
| ·电化学测试方法 | 第25-28页 |
| ·循环伏安法 | 第25-26页 |
| ·极化曲线 | 第26页 |
| ·电化学阻抗谱 | 第26-28页 |
| 第三章 氧化还原法在铜表面制备石墨烯及其抗腐蚀性能的研究 | 第28-39页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·实验部分 | 第28-31页 |
| ·氧化石墨烯的制备 | 第28-30页 |
| ·铜片表面提拉镀氧化石墨烯膜 | 第30-31页 |
| ·石墨烯的制备及其表征 | 第31-35页 |
| ·水合肼还原 | 第31-32页 |
| ·HI 酸还原 | 第32-34页 |
| ·H2还原 | 第34-35页 |
| ·电化学测试 | 第35-38页 |
| ·循环伏安法 | 第36页 |
| ·极化曲线 | 第36-37页 |
| ·电化学阻抗谱 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 气相沉积法在铜表面制备石墨烯及其抗腐蚀性能的研究 | 第39-56页 |
| ·引言 | 第39-40页 |
| ·实验部分 | 第40-42页 |
| ·生长时间对石墨烯生长的影响 | 第42-45页 |
| ·结构分析 | 第42-43页 |
| ·形貌分析 | 第43-45页 |
| ·H2对石墨烯生长的影响 | 第45-47页 |
| ·结构分析 | 第46-47页 |
| ·形貌分析 | 第47页 |
| ·电化学测试 | 第47-55页 |
| ·极化曲线 | 第50-52页 |
| ·电化学阻抗谱 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 总结与展望 | 第56-58页 |
| ·全文总结 | 第56-57页 |
| ·创新点及意义 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |