纳秒脉冲激光诱导单晶硅材料荧光效应的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| ·硅材料的荧光现象 | 第11-17页 |
| ·多孔硅的研究 | 第11-14页 |
| ·多孔硅的制备 | 第14-17页 |
| ·脉冲激光微加工技术 | 第17-22页 |
| ·脉冲激光微加工技术的特点 | 第18-19页 |
| ·脉冲激光微加工技术的发展状况 | 第19-22页 |
| ·课题研究 | 第22-27页 |
| ·课题研究的意义 | 第22-24页 |
| ·课题研究的内容 | 第24-27页 |
| 第二章 纳秒脉冲激光加工机理和荧光现象 | 第27-47页 |
| ·纳秒脉冲激光的加工机理 | 第27-36页 |
| ·纳秒脉冲激光与物质的相互作用 | 第27-30页 |
| ·加工单晶硅的理论模型 | 第30-34页 |
| ·加工效果的影响因素 | 第34-36页 |
| ·荧光现象 | 第36-45页 |
| ·荧光发射的物理过程 | 第37-39页 |
| ·荧光现象的特点和应用 | 第39-41页 |
| ·多孔硅的荧光发射机理 | 第41-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第三章 紫外纳秒脉冲激光微加工系统设计 | 第47-89页 |
| ·微加工系统总体设计 | 第47-49页 |
| ·系统模块的设计 | 第49-87页 |
| ·纳秒脉冲激光器 | 第49-53页 |
| ·光路机械结构 | 第53-56页 |
| ·传动系统 | 第56-58页 |
| ·控制系统 | 第58-86页 |
| ·辅助系统 | 第86-87页 |
| ·本章小结 | 第87-89页 |
| 第四章 加工单晶硅及其荧光现象的实验研究 | 第89-109页 |
| ·系统设置 | 第89-92页 |
| ·加工参数优化 | 第92-97页 |
| ·脉冲重复频率的影响 | 第92-94页 |
| ·激光能量的影响 | 第94-95页 |
| ·加工速度的影响 | 第95-96页 |
| ·参数优化 | 第96-97页 |
| ·加工效果的改善措施 | 第97-99页 |
| ·低能量重复加工 | 第97-98页 |
| ·气体辅助加工 | 第98-99页 |
| ·其他措施 | 第99页 |
| ·加工过程分析 | 第99-103页 |
| ·加工区域的荧光现象 | 第103-107页 |
| ·本章小结 | 第107-109页 |
| 第五章 总结与展望 | 第109-113页 |
| ·工作总结 | 第109-111页 |
| ·创新点总结 | 第111页 |
| ·工作展望 | 第111-113页 |
| 参考文献 | 第113-121页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第121-123页 |
| 致谢 | 第123-124页 |
