CoPtMo磁性薄膜的电化学制备及磁性研究
| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-13页 |
| 图清单 | 第13-15页 |
| 表清单 | 第15-16页 |
| 1 绪论 | 第16-30页 |
| ·引言 | 第16-17页 |
| ·硬磁材料及其性能 | 第17-18页 |
| ·矫顽力与剩磁 | 第17-18页 |
| ·饱和磁化强度和最大磁能积 | 第18页 |
| ·新硬磁材料 | 第18-20页 |
| ·稀土过渡金属永磁体 | 第18-19页 |
| ·钴铂铁铂纳米磁体 | 第19-20页 |
| ·软磁材料及其性能 | 第20-21页 |
| ·磁导率与矫顽力 | 第20-21页 |
| ·饱和磁化强度和磁滞损耗 | 第21页 |
| ·能量耗散和功率损耗 | 第21页 |
| ·新软磁材料 | 第21-22页 |
| ·磁性记录介质 | 第22-26页 |
| ·高密度垂直磁记录介 | 第22-23页 |
| ·纵向磁记录介质 | 第23页 |
| ·垂直磁记录介质 | 第23-24页 |
| ·垂直磁记录介质所面临的挑战 | 第24-25页 |
| ·CoCrPt垂直磁记录介质的发展 | 第25-26页 |
| ·电化学沉积法制备钴铂基磁性薄膜的研究进展 | 第26-30页 |
| 2 测试仪器与方法 | 第30-34页 |
| ·电化学测试方法 | 第30-32页 |
| ·控制电势暂态法 | 第30页 |
| ·循环伏安法 | 第30-32页 |
| ·测试仪器 | 第32-34页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第32页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第32-33页 |
| ·能谱仪(EDS) | 第33页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第33页 |
| ·膜厚台阶仪 | 第33-34页 |
| 3 化学镀法制备CoPtMo磁性薄膜 | 第34-42页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·实验方法 | 第34-35页 |
| ·镀液pH值对CoPtMo薄膜的影响 | 第35-38页 |
| ·形貌的影响 | 第35-36页 |
| ·成分的影响 | 第36-37页 |
| ·磁性能的影响 | 第37-38页 |
| ·钼盐浓度对CoPtMo薄膜的影响 | 第38-41页 |
| ·形貌的影响 | 第38页 |
| ·成分的影响 | 第38-39页 |
| ·磁性能的影响 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 4 电沉积法制备CoPtMo磁性薄膜 | 第42-54页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·实验方法 | 第42-43页 |
| ·无次亚磷酸钠条件下pH值的影响 | 第43-48页 |
| ·循环伏安分析 | 第43-45页 |
| ·形貌与结构分析 | 第45-46页 |
| ·成分与磁性能分析 | 第46-48页 |
| ·次亚磷酸钠浓度对镀层的影响 | 第48-53页 |
| ·电化学分析 | 第48-49页 |
| ·表面形貌与结构的影响 | 第49-51页 |
| ·成分与磁性能的影响 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 5 磁场下电沉积法制备CoPtMo磁性薄膜 | 第54-61页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·实验方法 | 第54-55页 |
| ·磁场对CoPtMo薄膜表面形貌的影响 | 第55-57页 |
| ·磁场对CoPtMo薄膜成分与结构的影响 | 第57-58页 |
| ·磁场对CoPtMo薄膜磁性能的影响 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 6 结论 | 第61-63页 |
| 7 创新点与展望 | 第63-64页 |
| ·创新点 | 第63页 |
| ·展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 作者简介 | 第69页 |
