| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-14页 |
| 第1章 原子级厚度二维晶体的研究进展 | 第14-50页 |
| ·引言 | 第14-16页 |
| ·原子级厚度二维晶体的合成 | 第16-30页 |
| ·机械剥离法 | 第16-17页 |
| ·化学气相沉积法 | 第17-19页 |
| ·直接化学合成法 | 第19-22页 |
| ·液相剥离法 | 第22-30页 |
| ·原子级厚度二维晶体电子结构的调控 | 第30-35页 |
| ·通过表面功能化 | 第31-32页 |
| ·通过电荷掺杂 | 第32-33页 |
| ·通过施加外力 | 第33-34页 |
| ·通过控制厚度 | 第34-35页 |
| ·原子级厚度二维晶体的组装与转移 | 第35-37页 |
| ·Langmuir-Blodgett组装与转移 | 第35-36页 |
| ·真空抽滤的组装与转移 | 第36-37页 |
| ·原子级厚度二维晶体的应用 | 第37-43页 |
| ·电子器件方面的应用 | 第37-38页 |
| ·能源存储方面的应用 | 第38-39页 |
| ·传感器方面的应用 | 第39-41页 |
| ·生物方面的应用 | 第41-42页 |
| ·改性高分子聚合物方面的应用 | 第42-43页 |
| ·本论文的选题背景和研究内容 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-50页 |
| 第2章 具有增强光响应性能的超薄石墨相C_3N_4纳米片在生物成像方面的应用 | 第50-66页 |
| ·引言 | 第50-51页 |
| ·实验部分 | 第51-54页 |
| ·超薄g-C_3N_4纳米片的制备 | 第51-53页 |
| ·表征手段和计算方法 | 第53-54页 |
| ·分析与讨论 | 第54-60页 |
| ·理论计算研究 | 第54-55页 |
| ·产物表征 | 第55-60页 |
| ·超薄g-C_3N_4纳米片的性质研究 | 第60-63页 |
| ·光响应性能研究 | 第60-62页 |
| ·细胞成像性能研究 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-66页 |
| 第3章 具有增强力学和热学性能的超薄MAX相纳米片在改性高分子材料方面的应用：以Ti_3Si_(0.75)Al_(0.25)C_2为例 | 第66-80页 |
| ·引言 | 第66-68页 |
| ·实验部分 | 第68-69页 |
| ·样品制备 | 第68页 |
| ·表征手段和计算方法 | 第68-69页 |
| ·分析和讨论 | 第69-75页 |
| ·产物的表征 | 第69-73页 |
| ·理论计算分析 | 第73-75页 |
| ·复合薄膜的热学和力学性能研究 | 第75-77页 |
| ·本章小结 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-80页 |
| 第4章 原子级厚度Co_9Se_8纳米片的合成及其半金属铁磁性能研究 | 第80-98页 |
| ·引言 | 第80-81页 |
| ·实验部分 | 第81-82页 |
| ·样品制备 | 第81页 |
| ·表征手段和计算方法 | 第81-82页 |
| ·分析和讨论 | 第82-88页 |
| ·产物的表征 | 第82-87页 |
| ·反应机理研究 | 第87-88页 |
| ·原子级厚度Co_9Se_8纳米片的半金属铁磁性能研究 | 第88-94页 |
| ·本征半金属铁磁性能研究 | 第88-91页 |
| ·氧原子吸附在纳米片表面后对半金属铁磁性能的影响 | 第91-93页 |
| ·实验上对半金属铁磁性能的支持 | 第93-94页 |
| ·本章小结 | 第94-95页 |
| 参考文献 | 第95-98页 |
| 第5章 二维面内共组装方法制备无机-有机杂化纳米片 | 第98-120页 |
| ·引言 | 第98-99页 |
| ·实验部分 | 第99-101页 |
| ·样品制备 | 第99-101页 |
| ·表征手段和计算方法 | 第101页 |
| ·分析和讨论 | 第101-116页 |
| ·Co-9S_8—油胺杂化片的表征 | 第101-108页 |
| ·其它过渡金属硫属化合物—烷基胺杂化片的表征 | 第108-112页 |
| ·Co_9S_8—油胺杂化片的形成机理研究 | 第112-114页 |
| ·Co_9S8油胺杂化片的结构研究 | 第114-116页 |
| ·本章小结 | 第116-117页 |
| 参考文献 | 第117-120页 |
| 攻读博士期间发表的学术论文与取得的其它科研成果 | 第120-124页 |
| 致谢 | 第124-125页 |
