| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-19页 |
| ·CuAlO_2透明导电氧化物的研究背景及意义 | 第12-13页 |
| ·CuAlO_2晶体结构 | 第13-14页 |
| ·p 型 CuAlO_2制备方法 | 第14-16页 |
| ·磁控溅射法 | 第14-15页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第15页 |
| ·脉冲激光沉积法（PLD） | 第15页 |
| ·化学气相沉积法（CVD） | 第15-16页 |
| ·静电纺丝法 | 第16页 |
| ·p 型 CuAlO_2的性能 | 第16-17页 |
| ·光学性能 | 第16-17页 |
| ·电学性能 | 第17页 |
| ·其他特性 | 第17页 |
| ·本论文研究的内容和创新点 | 第17-19页 |
| 第二章 样品的制备方法及表征方式 | 第19-29页 |
| ·CuAlO_2透明导电薄膜的制备 | 第19-23页 |
| ·磁控溅射设备简介及工作原理 | 第19-22页 |
| ·溶胶凝胶法的基本原理 | 第22页 |
| ·静电纺丝法设备简介及工作原理 | 第22-23页 |
| ·CuAlO_2透明导电氧化物的表征方法 | 第23-25页 |
| ·CuAlO_2透明导电氧化物的结构表征 | 第23-24页 |
| ·CuAlO_2透明导电氧化物的表面形貌分析 | 第24页 |
| ·CuAlO_2透明导电氧化物的拉曼散射光谱测试 | 第24-25页 |
| ·CuAlO_2透明导电氧化物 XPS 分析 | 第25页 |
| ·CuAlO_2透明导电氧化物的性能测试 | 第25-27页 |
| ·CuAlO_2薄膜的光学性能测量 | 第25-26页 |
| ·CuAlO_2薄膜的电学性能测量 | 第26页 |
| ·CuAlO_2薄膜的磁学性能测量 | 第26-27页 |
| ·Cu-Al-O 纤维对臭氧的气敏特性测试 | 第27页 |
| ·本论文主要使用的化学药品和实验仪器 | 第27-29页 |
| ·主要化学药品 | 第27-28页 |
| ·主要实验仪器 | 第28-29页 |
| 第三章 CuAlO_2透明导电膜的制备及性能研究 | 第29-38页 |
| ·退火温度对 CuAlO_2透明导电膜物相的影响 | 第29-32页 |
| ·CuAlO_2透明导电膜的制备 | 第29-31页 |
| ·退火温度对 CuAlO_2薄膜物相的影响 | 第31-32页 |
| ·掺 Cr 对 CuAlO_2薄膜的结构及光电性能的影响 | 第32-37页 |
| ·Cr 掺杂 CuAlO_2薄膜的制备 | 第33页 |
| ·Cr 掺杂对 CuAlO_2薄膜相结构的影响 | 第33-35页 |
| ·Cr 掺杂 CuAlO_2薄膜光学性能的影响 | 第35-36页 |
| ·Cr 掺杂 CuAlO_2薄膜电学性能的影响 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 Co 掺杂 CuAlO_2稀磁氧化物半导体薄膜的制备及性能研究 | 第38-49页 |
| ·CuAl_(1-x)Co_xO_2膜的制备 | 第38-39页 |
| ·实验结果与分析 | 第39-48页 |
| ·纯相 CuAlO_2的表面形貌分析 | 第39-41页 |
| ·XRD 物相分析 | 第41-43页 |
| ·拉曼散射光谱分析 | 第43-44页 |
| ·X 射线光电子能谱（简称 XPS）分析结果分析 | 第44-45页 |
| ·CuAl_(1-x)Co_xO_2的磁性分析 | 第45-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 一维 Cu-Al-O 纳米材料的制备及性能表征 | 第49-63页 |
| ·Cu-Al-O 纤维的制备 | 第49-52页 |
| ·前驱液的配置 | 第49-50页 |
| ·静电纺丝过程 | 第50-52页 |
| ·后处理过程 | 第52页 |
| ·实验结果与分析 | 第52-62页 |
| ·XRD 物相分析 | 第52-54页 |
| ·扫描电子显微镜形貌分析 | 第54-56页 |
| ·Cu-Al-O 纳米纤维的气敏特性分析 | 第56-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第六章 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 作者简介及在学期间所取得的科研成果 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
