| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·气相沉积技术 | 第10-14页 |
| ·溅射沉积 | 第11页 |
| ·磁控溅射沉积 | 第11-14页 |
| ·硬质涂层概述 | 第14-15页 |
| ·氮化物硬质涂层的研究进展 | 第15-20页 |
| ·二元氮化物 | 第15-16页 |
| ·三元氮化物 | 第16-17页 |
| ·多元氮化物 | 第17-20页 |
| ·涂层的高温氧化 | 第20-22页 |
| ·论文研究意义及内容 | 第22-24页 |
| ·研究意义 | 第22页 |
| ·研究内容 | 第22-24页 |
| 第2章 样品制备和测试方法 | 第24-29页 |
| ·磁控溅射设备简介 | 第24-25页 |
| ·实验材料 | 第25页 |
| ·样品制备 | 第25-26页 |
| ·(Ti,Al)N及(Ti,Al,Si,Y)N涂层制备 | 第25-26页 |
| ·(Cr,Al)N及(Cr,Al,Si,Y)N涂层制备 | 第26页 |
| ·显微结构表征 | 第26-27页 |
| ·形貌观察 | 第26-27页 |
| ·成分分析 | 第27页 |
| ·相组成及结构分析 | 第27页 |
| ·性能测试 | 第27-29页 |
| ·硬度测量 | 第27-28页 |
| ·结合强度的测量 | 第28页 |
| ·高温氧化实验 | 第28-29页 |
| 第3章 磁控溅射(Ti,Al)N及(Ti,Al,Si,Y)N涂层的研究 | 第29-47页 |
| ·涂层成分 | 第29-30页 |
| ·微观结构 | 第30-31页 |
| ·抗氧化性能 | 第31-41页 |
| ·850℃抗氧化性 | 第31-35页 |
| ·950℃抗氧化性 | 第35-41页 |
| ·力学性能 | 第41-45页 |
| ·硬度 | 第41-43页 |
| ·结合力 | 第43-45页 |
| ·小结 | 第45-47页 |
| 第4章 磁控溅射(Cr,Al)N及(Cr,Al,Si,Y)N涂层的研究 | 第47-75页 |
| ·涂层成分 | 第47-48页 |
| ·涂层沉积速率 | 第48-49页 |
| ·涂层相结构 | 第49-52页 |
| ·涂层表面及断面形貌 | 第52-54页 |
| ·抗氧化性能 | 第54-68页 |
| ·850℃抗氧化性能 | 第55-60页 |
| ·950℃抗氧化性能 | 第60-68页 |
| ·力学性能 | 第68-73页 |
| ·硬度 | 第68-70页 |
| ·结合力 | 第70-73页 |
| ·小结 | 第73-75页 |
| 第5章 结论 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-83页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84页 |
