摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-12页 |
1 绪论 | 第12-20页 |
·选题背景及研究意义 | 第12-16页 |
·合金沉淀相变的研究意义 | 第12页 |
·合金沉淀相变的研究方法 | 第12-13页 |
·合金沉淀相变的相关研究 | 第13-16页 |
·镍基合金沉淀过程研究进展 | 第16-18页 |
·本文主要研究内容 | 第18页 |
·本文的结构框架 | 第18-20页 |
2 微观相场动力学模型 | 第20-30页 |
·引言 | 第20页 |
·模型的基本假设 | 第20-21页 |
·模型的特点及优点 | 第21页 |
·二元体系相场动力学模型 | 第21-22页 |
·微观相场方程 | 第21-22页 |
·微观 Langevin 方程 | 第22页 |
·三元合金体系相场动力学模型 | 第22-27页 |
·三元体系微观扩散方程 | 第22-23页 |
·傅里叶空间中的微观 Langevin 方程 | 第23-24页 |
·自由能函数 | 第24页 |
·原子间相互作用 | 第24-25页 |
·含弹性能的微观 Langevin 方程 | 第25页 |
·应用于 fcc 晶格 | 第25-26页 |
·最终动力学方程 | 第26-27页 |
·随机噪声项 | 第27页 |
·本文研究对象 | 第27-28页 |
·计算环境 | 第28-30页 |
3 Ni_(75)Al_xV_(25-x)合金沉淀过程中界面演化模拟 | 第30-64页 |
·沉淀相有序结构 | 第30-31页 |
·Ll_2相结构 | 第30-31页 |
·DO_(22)相结构 | 第31页 |
·界面类型 | 第31-36页 |
·Ll_2相间界面类型 | 第31-33页 |
·DO_(22)相间界面类型 | 第33-34页 |
·异相之间界面类型 | 第34-36页 |
·异相界面结构及其迁移特征 | 第36-45页 |
·异相界面处原子演化过程 | 第36-38页 |
·界面(100)_θ//(001)_r′处的原子跃迁 | 第38-40页 |
·界面( 001)_θ//( 001)_r′处的原子跃迁 | 第40-41页 |
·界面( 001)_θ//( 002)_r′处的原子跃迁 | 第41-43页 |
·异相界面处局部序参数变化 | 第43-45页 |
·DO_(22)间界面结构及其迁移特征 | 第45-54页 |
·DO_(22)同相间界面处原子演化过程 | 第45-47页 |
·界面(100)_θ//(100)_θ处的原子跃迁 | 第47-49页 |
·界面( 001)_θ//(100)_θ处的原子跃迁 | 第49-50页 |
·界面( 001)_θ//( 004)_θ处的原子跃迁 | 第50-51页 |
·界面( 001)_θ//( 200)_θ处的原子跃迁 | 第51-52页 |
·DO_(22)同相间界面处局部序参数变化 | 第52-54页 |
·Ll_2同相间界面结构及其迁移 | 第54-63页 |
·Ll_2同相间界面处原子演化过程 | 第54-57页 |
·界面(100)_(r′)//( 200)_(r′)处的原子跃迁 | 第57-59页 |
·界面(100)_(r′)//(100)_(r′)处的原子跃迁 | 第59-61页 |
·Ll_2同相间界面处局部序参数变化 | 第61-63页 |
·本章小结 | 第63-64页 |
4 弹性畸变能对 Ni_(75)Al_xV_(25-x)合金沉淀过程界面演化的影响 | 第64-98页 |
·畸变能常数 B=0 时 Ni_(75)Al_(10)V_15合金沉淀过程的界面演化 | 第64-72页 |
·原子演化图像 | 第64-66页 |
·界面结构类型 | 第66-68页 |
·界面处原子的跃迁 | 第68-71页 |
·界面处局部序参数分析 | 第71-72页 |
·畸变能常数 B=300 时 Ni_(75)Al_(10)V_15合金沉淀过程的界面演化 | 第72-80页 |
·原子演化图像 | 第72-74页 |
·界面结构类型 | 第74-76页 |
·界面处原子的跃迁 | 第76-79页 |
·界面处局部序参数分析 | 第79-80页 |
·畸变能常数 B=500 时 Ni_(75)Al_(10)V_15合金沉淀过程的界面演化 | 第80-88页 |
·原子演化图像 | 第80-82页 |
·界面结构类型 | 第82-85页 |
·界面处原子的跃迁 | 第85-87页 |
·界面处局部序参数分析 | 第87-88页 |
·不同弹性畸变能常数的比较 | 第88-96页 |
·畸变常数 B=0 和 B=500 时原子演化图像比较 | 第89-91页 |
·畸变能对同相界面结构类型的影响 | 第91-92页 |
·畸变能对异相界面结构类型的影响 | 第92-93页 |
·不同畸变常数下界面处原子跃迁和迁移方式比较 | 第93-94页 |
·不同畸变常数下界面局部序参数比较 | 第94-96页 |
·本章小结 | 第96-98页 |
·不同畸变常数对原子演化图像的影响 | 第96页 |
·不同畸变常数对界面结构类型的影响 | 第96页 |
·不同畸变常数对界面处原子跃迁和迁移方式的影响 | 第96-97页 |
·不同畸变常数对界面处局部序参数的影响 | 第97-98页 |
5 Ni_(75)Al_xV_(25-x)合金沉淀过程 Ni_3V 相反位缺陷及演化 | 第98-104页 |
·Al:V 值对 Ni_3V 相反位缺陷的影响 | 第98-101页 |
·Ll_2相析出与 Ni_3V 相反位缺陷的关系 | 第98-99页 |
·DO_(22)-Ni_3V 相反位缺陷 | 第99-101页 |
·Ni_3V 相反位缺陷的演化 | 第101-102页 |
·Ni_3V 相反位缺陷处的界面分析 | 第102-103页 |
·界面类型 | 第102-103页 |
·界面的局部序参数分析 | 第103页 |
·本章小结 | 第103-104页 |
结论 | 第104-106页 |
参考文献 | 第106-113页 |
致谢 | 第113-114页 |
攻读硕士期间发表的论文及所取得的研究成果 | 第114页 |