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Ni75AlxV25合金沉淀过程界面演化规律的微观相场研究

摘要第1-6页
Abstract第6-12页
1 绪论第12-20页
   ·选题背景及研究意义第12-16页
     ·合金沉淀相变的研究意义第12页
     ·合金沉淀相变的研究方法第12-13页
     ·合金沉淀相变的相关研究第13-16页
   ·镍基合金沉淀过程研究进展第16-18页
   ·本文主要研究内容第18页
   ·本文的结构框架第18-20页
2 微观相场动力学模型第20-30页
   ·引言第20页
   ·模型的基本假设第20-21页
   ·模型的特点及优点第21页
   ·二元体系相场动力学模型第21-22页
     ·微观相场方程第21-22页
     ·微观 Langevin 方程第22页
   ·三元合金体系相场动力学模型第22-27页
     ·三元体系微观扩散方程第22-23页
     ·傅里叶空间中的微观 Langevin 方程第23-24页
     ·自由能函数第24页
     ·原子间相互作用第24-25页
     ·含弹性能的微观 Langevin 方程第25页
     ·应用于 fcc 晶格第25-26页
     ·最终动力学方程第26-27页
     ·随机噪声项第27页
   ·本文研究对象第27-28页
   ·计算环境第28-30页
3 Ni_(75)Al_xV_(25-x)合金沉淀过程中界面演化模拟第30-64页
   ·沉淀相有序结构第30-31页
     ·Ll_2相结构第30-31页
     ·DO_(22)相结构第31页
   ·界面类型第31-36页
     ·Ll_2相间界面类型第31-33页
     ·DO_(22)相间界面类型第33-34页
     ·异相之间界面类型第34-36页
   ·异相界面结构及其迁移特征第36-45页
     ·异相界面处原子演化过程第36-38页
     ·界面(100)_θ//(001)_r′处的原子跃迁第38-40页
     ·界面( 001)_θ//( 001)_r′处的原子跃迁第40-41页
     ·界面( 001)_θ//( 002)_r′处的原子跃迁第41-43页
     ·异相界面处局部序参数变化第43-45页
   ·DO_(22)间界面结构及其迁移特征第45-54页
     ·DO_(22)同相间界面处原子演化过程第45-47页
     ·界面(100)_θ//(100)_θ处的原子跃迁第47-49页
     ·界面( 001)_θ//(100)_θ处的原子跃迁第49-50页
     ·界面( 001)_θ//( 004)_θ处的原子跃迁第50-51页
     ·界面( 001)_θ//( 200)_θ处的原子跃迁第51-52页
     ·DO_(22)同相间界面处局部序参数变化第52-54页
   ·Ll_2同相间界面结构及其迁移第54-63页
     ·Ll_2同相间界面处原子演化过程第54-57页
     ·界面(100)_(r′)//( 200)_(r′)处的原子跃迁第57-59页
     ·界面(100)_(r′)//(100)_(r′)处的原子跃迁第59-61页
     ·Ll_2同相间界面处局部序参数变化第61-63页
   ·本章小结第63-64页
4 弹性畸变能对 Ni_(75)Al_xV_(25-x)合金沉淀过程界面演化的影响第64-98页
   ·畸变能常数 B=0 时 Ni_(75)Al_(10)V_15合金沉淀过程的界面演化第64-72页
     ·原子演化图像第64-66页
     ·界面结构类型第66-68页
     ·界面处原子的跃迁第68-71页
     ·界面处局部序参数分析第71-72页
   ·畸变能常数 B=300 时 Ni_(75)Al_(10)V_15合金沉淀过程的界面演化第72-80页
     ·原子演化图像第72-74页
     ·界面结构类型第74-76页
     ·界面处原子的跃迁第76-79页
     ·界面处局部序参数分析第79-80页
   ·畸变能常数 B=500 时 Ni_(75)Al_(10)V_15合金沉淀过程的界面演化第80-88页
     ·原子演化图像第80-82页
     ·界面结构类型第82-85页
     ·界面处原子的跃迁第85-87页
     ·界面处局部序参数分析第87-88页
   ·不同弹性畸变能常数的比较第88-96页
     ·畸变常数 B=0 和 B=500 时原子演化图像比较第89-91页
     ·畸变能对同相界面结构类型的影响第91-92页
     ·畸变能对异相界面结构类型的影响第92-93页
     ·不同畸变常数下界面处原子跃迁和迁移方式比较第93-94页
     ·不同畸变常数下界面局部序参数比较第94-96页
   ·本章小结第96-98页
     ·不同畸变常数对原子演化图像的影响第96页
     ·不同畸变常数对界面结构类型的影响第96页
     ·不同畸变常数对界面处原子跃迁和迁移方式的影响第96-97页
     ·不同畸变常数对界面处局部序参数的影响第97-98页
5 Ni_(75)Al_xV_(25-x)合金沉淀过程 Ni_3V 相反位缺陷及演化第98-104页
   ·Al:V 值对 Ni_3V 相反位缺陷的影响第98-101页
     ·Ll_2相析出与 Ni_3V 相反位缺陷的关系第98-99页
     ·DO_(22)-Ni_3V 相反位缺陷第99-101页
   ·Ni_3V 相反位缺陷的演化第101-102页
   ·Ni_3V 相反位缺陷处的界面分析第102-103页
     ·界面类型第102-103页
     ·界面的局部序参数分析第103页
   ·本章小结第103-104页
结论第104-106页
参考文献第106-113页
致谢第113-114页
攻读硕士期间发表的论文及所取得的研究成果第114页

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