| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-15页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·薄膜制备的常见方法 | 第7-9页 |
| ·薄膜材料特点及其分类 | 第9-10页 |
| ·等离子体表面改性 | 第10-11页 |
| ·金属材料表面改性 | 第11-12页 |
| ·三元氮化物薄膜的研究进展 | 第12-13页 |
| ·TiCN的研究现状 | 第13页 |
| ·论文研究目的和内容 | 第13-15页 |
| 第二章 电弧离子镀的工作原理 | 第15-21页 |
| ·真空阴极弧沉积技术的原理 | 第15-17页 |
| ·阴极弧斑特性 | 第17页 |
| ·弧电流的作用 | 第17-18页 |
| ·真空阴极弧沉积技术的特点 | 第18-19页 |
| ·真空阴极弧制备薄膜的应用 | 第19-21页 |
| 第三章 实验设备及分析设备 | 第21-24页 |
| ·实验设备简介 | 第21页 |
| ·试验用材料成分 | 第21-22页 |
| ·实验样品的制备 | 第22-23页 |
| ·分析设备及方法 | 第23-24页 |
| 第四章 利用阴极弧制备不同偏压下Ti-C-N薄膜的研究 | 第24-32页 |
| ·试验方法 | 第24页 |
| ·工艺参数 | 第24-25页 |
| ·Ti-C-N薄膜的组成及结构分析 | 第25-27页 |
| ·Ti-C-N薄膜的耐摩擦性能 | 第27-28页 |
| ·Ti-C-N薄膜的耐腐蚀性能 | 第28-32页 |
| 结论 | 第32-33页 |
| 致谢 | 第33-34页 |
| 参考文献 | 第34-37页 |