大高宽比纳米光学元件制作工艺及应用研究
摘要 | 第1-8页 |
ABSTRACT | 第8-12页 |
目录 | 第12-16页 |
第1章 绪论 | 第16-32页 |
·纳米光学简介 | 第17-18页 |
·纳米光学元件制作方法 | 第18-24页 |
·电子束曝光技术 | 第18-19页 |
·纳米压印光技术 | 第19-22页 |
·极紫外光刻技术 | 第22-23页 |
·干涉光刻技术 | 第23-24页 |
·大高宽比纳米光学元件 | 第24-28页 |
·X射线透射光栅 | 第25-26页 |
·菲涅尔波带片 | 第26-28页 |
·论文主要工作和内容安排 | 第28-32页 |
第2章 纳米结构软X光刻精度控制技术 | 第32-52页 |
·X射线曝光原理 | 第32-36页 |
·X射线曝光原理简介 | 第32-33页 |
·影响X射线曝光精度的因素 | 第33-36页 |
·X射线曝光系统 | 第36-39页 |
·同步辐射X射线源 | 第36-37页 |
·同步辐射X射线掩模 | 第37-38页 |
·同步辐射X射线抗蚀剂 | 第38-39页 |
·X射线光刻实验站简介 | 第39-41页 |
·X射线光刻站技术参数 | 第39-40页 |
·X射线光刻站取得的成果 | 第40-41页 |
·X射线曝光精度控制方法与实验研究 | 第41-51页 |
·传统的X射线曝光间隙控制方法 | 第41-43页 |
·基于等厚干涉原理的间隙控制方法 | 第43-47页 |
·间隙干涉条纹观测和实验分析验证 | 第47-51页 |
·本章小结 | 第51-52页 |
第3章 大高宽比纳米结构显影工艺研究 | 第52-74页 |
·常用X射线抗蚀剂显影 | 第52-55页 |
·正性抗蚀剂显影 | 第53-55页 |
·负性抗蚀剂显影 | 第55页 |
·微纳机电系统的尺寸效应和失效机制 | 第55-57页 |
·微纳机电系统的尺寸效应 | 第56-57页 |
·微纳机电系统的失效机制 | 第57页 |
·大高宽比纳米结构显影工艺研究 | 第57-62页 |
·低表面张力的干燥方法 | 第59-60页 |
·提高机械强度干燥方法 | 第60-62页 |
·辅助干燥方法研究 | 第62-73页 |
·开放结构坍塌理论分析 | 第62-68页 |
·辅助干燥方法实验验证 | 第68-69页 |
·封闭结构失效理论分析 | 第69-73页 |
·本章小结 | 第73-74页 |
第4章 大高宽比纳米聚合物光子晶体激光器设计 | 第74-88页 |
·光子晶体简介 | 第74-77页 |
·光子晶体定义 | 第74-75页 |
·光子晶体特性 | 第75-76页 |
·光子晶体的应用 | 第76-77页 |
·聚合物光子晶体激光器 | 第77-80页 |
·聚合物光子晶体激光器简介 | 第77-78页 |
·激光工作物质 | 第78-80页 |
·光子晶体理论研究方法 | 第80-81页 |
·平面波展开法 | 第80页 |
·传输矩阵法 | 第80页 |
·时域有限差分法 | 第80-81页 |
·多重散射法 | 第81页 |
·光子晶体激光器设计 | 第81-87页 |
·平面波展开法计算步骤 | 第81-83页 |
·光子晶体能带计算 | 第83-87页 |
·本章小结 | 第87-88页 |
第5章 大高宽比聚合物光子晶体激光器制作与测试 | 第88-118页 |
·光子晶体的制作方法 | 第88-92页 |
·机械制备方法 | 第88-90页 |
·光刻及刻蚀方法 | 第90-92页 |
·自组装方法 | 第92页 |
·同步辐射X射线掩模制作 | 第92-105页 |
·电子束曝光工艺研究 | 第93-100页 |
·电镀金工艺研究 | 第100-105页 |
·大高宽比聚合物光子晶体激光器制作 | 第105-109页 |
·实验材料制备工艺 | 第105-106页 |
·聚合物光子晶体结构制作 | 第106-109页 |
·大高宽比聚合物光子晶体激光器初步测试及优化 | 第109-114页 |
·测试平台的搭建 | 第109-110页 |
·测试数据采集及分析 | 第110-114页 |
·聚合物光子晶体激光器优化 | 第114-116页 |
·改变结构参数设计优化能带 | 第114-116页 |
·优化后X射线曝光掩模制作 | 第116页 |
·本章小结 | 第116-118页 |
第6章 总结与展望 | 第118-120页 |
参考文献 | 第120-128页 |
附录 | 第128-130页 |
致谢 | 第130-132页 |
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第132页 |