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大高宽比纳米光学元件制作工艺及应用研究

摘要第1-8页
ABSTRACT第8-12页
目录第12-16页
第1章 绪论第16-32页
   ·纳米光学简介第17-18页
   ·纳米光学元件制作方法第18-24页
     ·电子束曝光技术第18-19页
     ·纳米压印光技术第19-22页
     ·极紫外光刻技术第22-23页
     ·干涉光刻技术第23-24页
   ·大高宽比纳米光学元件第24-28页
     ·X射线透射光栅第25-26页
     ·菲涅尔波带片第26-28页
   ·论文主要工作和内容安排第28-32页
第2章 纳米结构软X光刻精度控制技术第32-52页
   ·X射线曝光原理第32-36页
     ·X射线曝光原理简介第32-33页
     ·影响X射线曝光精度的因素第33-36页
   ·X射线曝光系统第36-39页
     ·同步辐射X射线源第36-37页
     ·同步辐射X射线掩模第37-38页
     ·同步辐射X射线抗蚀剂第38-39页
   ·X射线光刻实验站简介第39-41页
     ·X射线光刻站技术参数第39-40页
     ·X射线光刻站取得的成果第40-41页
   ·X射线曝光精度控制方法与实验研究第41-51页
     ·传统的X射线曝光间隙控制方法第41-43页
     ·基于等厚干涉原理的间隙控制方法第43-47页
     ·间隙干涉条纹观测和实验分析验证第47-51页
   ·本章小结第51-52页
第3章 大高宽比纳米结构显影工艺研究第52-74页
   ·常用X射线抗蚀剂显影第52-55页
     ·正性抗蚀剂显影第53-55页
     ·负性抗蚀剂显影第55页
   ·微纳机电系统的尺寸效应和失效机制第55-57页
     ·微纳机电系统的尺寸效应第56-57页
     ·微纳机电系统的失效机制第57页
   ·大高宽比纳米结构显影工艺研究第57-62页
     ·低表面张力的干燥方法第59-60页
     ·提高机械强度干燥方法第60-62页
   ·辅助干燥方法研究第62-73页
     ·开放结构坍塌理论分析第62-68页
     ·辅助干燥方法实验验证第68-69页
     ·封闭结构失效理论分析第69-73页
   ·本章小结第73-74页
第4章 大高宽比纳米聚合物光子晶体激光器设计第74-88页
   ·光子晶体简介第74-77页
     ·光子晶体定义第74-75页
     ·光子晶体特性第75-76页
     ·光子晶体的应用第76-77页
   ·聚合物光子晶体激光器第77-80页
     ·聚合物光子晶体激光器简介第77-78页
     ·激光工作物质第78-80页
   ·光子晶体理论研究方法第80-81页
     ·平面波展开法第80页
     ·传输矩阵法第80页
     ·时域有限差分法第80-81页
     ·多重散射法第81页
   ·光子晶体激光器设计第81-87页
     ·平面波展开法计算步骤第81-83页
     ·光子晶体能带计算第83-87页
   ·本章小结第87-88页
第5章 大高宽比聚合物光子晶体激光器制作与测试第88-118页
   ·光子晶体的制作方法第88-92页
     ·机械制备方法第88-90页
     ·光刻及刻蚀方法第90-92页
     ·自组装方法第92页
   ·同步辐射X射线掩模制作第92-105页
     ·电子束曝光工艺研究第93-100页
     ·电镀金工艺研究第100-105页
   ·大高宽比聚合物光子晶体激光器制作第105-109页
     ·实验材料制备工艺第105-106页
     ·聚合物光子晶体结构制作第106-109页
   ·大高宽比聚合物光子晶体激光器初步测试及优化第109-114页
     ·测试平台的搭建第109-110页
     ·测试数据采集及分析第110-114页
   ·聚合物光子晶体激光器优化第114-116页
     ·改变结构参数设计优化能带第114-116页
     ·优化后X射线曝光掩模制作第116页
   ·本章小结第116-118页
第6章 总结与展望第118-120页
参考文献第120-128页
附录第128-130页
致谢第130-132页
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果第132页

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