摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-10页 |
第一章 绪论 | 第10-28页 |
·铝合金的性质与应用 | 第10页 |
·铝合金的腐蚀 | 第10-11页 |
·铝合金的腐蚀性 | 第10页 |
·铝合金的腐蚀类型及形态 | 第10-11页 |
·常规铝合金表面防护处理技术 | 第11-12页 |
·铬酸盐钝化技术 | 第12页 |
·磷酸盐转化膜技术 | 第12页 |
·阳极氧化技术 | 第12页 |
·新型防护技术Ⅰ—硅烷化处理技术(Silanization) | 第12-16页 |
·硅烷化处理与防腐蚀机理 | 第12-13页 |
·硅烷化处理的研究进展 | 第13-15页 |
·硅烷膜制备的影响因素 | 第15-16页 |
·新型防护技术Ⅱ—电化学辅助沉积技术 | 第16-22页 |
·硅烷膜的电化学制备 | 第17页 |
·TDTs 纳米聚合薄膜的电化学制备 | 第17-22页 |
·膜的表征 | 第22-24页 |
·电化学方法表征 | 第22-23页 |
·元素与结构分析 | 第23-24页 |
·膜的浸润性 | 第24页 |
·本论文的研究内容及研究目的 | 第24-26页 |
·本论文的研究内容 | 第24-25页 |
·本论文的研究目的 | 第25-26页 |
·研究方案与技术路线 | 第26-28页 |
·研究方案及技术路线 | 第26页 |
·纳米薄膜的表征方法 | 第26-28页 |
第二章 Step1—PDB 纳米聚合薄膜的制备 | 第28-36页 |
·实验部分 | 第28-31页 |
·实验试剂与材料 | 第28-29页 |
·实验仪器及设备 | 第29页 |
·实验部分 | 第29-30页 |
·测试与表征 | 第30-31页 |
·实验结果与讨论 | 第31-35页 |
·支持电解质的选择 | 第31-32页 |
·最佳沉积电位的确定 | 第32-33页 |
·不同沉积电位下的循环伏安图及极化曲线分析 | 第33-35页 |
·本章小结 | 第35-36页 |
第三章 Step2—CPDB 高分子纳米复合薄膜的制备 | 第36-43页 |
·实验部分 | 第36-37页 |
·实验试剂及材料 | 第36页 |
·实验仪器及设备 | 第36页 |
·实验方法 | 第36-37页 |
·测试与表征 | 第37页 |
·实验结果与分析 | 第37-42页 |
·HDTMS 溶液水解时间的确定 | 第37-38页 |
·溶液浓度及组装时间的确定 | 第38-41页 |
·固化温度对硅烷化处理的影响 | 第41-42页 |
·本章小结 | 第42-43页 |
第四章 CPDB 高分子纳米复合薄膜的成膜机理及性能测试 | 第43-51页 |
·实验部分 | 第43页 |
·实验试剂及材料 | 第43页 |
·测试与表征 | 第43页 |
·CPDB 高分子纳米复合薄膜的成膜机理 | 第43-47页 |
·复合膜的表征及性能测试 | 第47-50页 |
·复合膜的表征 | 第47-48页 |
·复合膜的性能测试 | 第48-50页 |
·本章小结 | 第50-51页 |
第五章 结论与展望 | 第51-53页 |
·结论 | 第51页 |
·展望 | 第51-53页 |
参考文献 | 第53-57页 |
致谢 | 第57-58页 |
作者简介 | 第58页 |