电火花抛光CVD金刚石膜研究
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| CONTENTS | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| 1．1 本课题的研究意义 | 第9-10页 |
| 1．2 国内外研究现状 | 第10-19页 |
| 1．2．1 金刚石与金刚石膜的性质 | 第10-11页 |
| 1．2．2 单晶金刚石的抛光理论 | 第11-14页 |
| 1．2．3 CVD金刚石膜的抛光技术 | 第14-17页 |
| 1．2．4 电火花加工 | 第17-19页 |
| 1．3 本课题的来源与主要研究内容 | 第19-20页 |
| 1．3．1 课题的来源 | 第19页 |
| 1．3．2 课题研究的主要目标 | 第19页 |
| 1．3．3 课题研究的主要内容 | 第19-20页 |
| 第二章 金刚石膜表面镀膜 | 第20-29页 |
| 2．1 表面成膜技术 | 第20-21页 |
| 2．1．1 物理化学气相沉积技术 | 第20-21页 |
| 2．1．2 化学镀膜技术 | 第21页 |
| 2．1．3 电镀技术 | 第21页 |
| 2．2 金刚石膜表面镀膜实验 | 第21-28页 |
| 2．2．1 金刚石膜表面多弧离子镀膜 | 第22-23页 |
| 2．2．2 金刚石膜表面化学镀膜 | 第23-28页 |
| 2．3 本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 电火花抛光金刚石膜蚀除机理研究 | 第29-52页 |
| 3．1 实验 | 第29-34页 |
| 3．1．1 实验总体思路 | 第29-30页 |
| 3．1．2 镀层材料的选择 | 第30-31页 |
| 3．1．3 实验条件 | 第31-33页 |
| 3．1．4 单脉冲蚀除金刚石膜实验工艺 | 第33-34页 |
| 3．1．5 连续脉冲抛光金刚石膜实验工艺 | 第34页 |
| 3．2 单脉冲蚀除金刚石膜 | 第34-40页 |
| 3．2．1 金刚石膜的放电影响区 | 第34-36页 |
| 3．2．2 镀层材料对表面形貌的影响 | 第36-39页 |
| 3．2．3 镀层材料优选 | 第39-40页 |
| 3．3 连续脉冲抛光金刚石膜 | 第40-43页 |
| 3．3．1 旋转电极抛光金刚石膜 | 第40-42页 |
| 3．3．2 直线进给抛光金刚石膜 | 第42-43页 |
| 3．4 电火花抛光金刚石膜的蚀除机理 | 第43-50页 |
| 3．4．1 X射线衍射分析 | 第43-44页 |
| 3．4．2 激光拉曼光谱分析 | 第44-46页 |
| 3．4．3 金刚石膜的蚀除机理分析 | 第46-50页 |
| 3．5 本章小结 | 第50-52页 |
| 第四章 电加工工艺参数对金刚石膜抛光的影响 | 第52-68页 |
| 4．1 镀膜厚度的测量与计算 | 第52-53页 |
| 4．2 实验 | 第53-65页 |
| 4．2．1 实验条件 | 第53-54页 |
| 4．2．2 单因素实验 | 第54-62页 |
| 4．2．3 正交实验 | 第62-65页 |
| 4．3 电火花抛光-机械抛光 | 第65-66页 |
| 4．3．1 实验 | 第65-66页 |
| 4．3．2 实验结果分析 | 第66页 |
| 4．4 本章小结 | 第66-68页 |
| 结论与展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
