镍钛合金表面a-C：F膜的制备与性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| ·本文研究的背景及意义 | 第11页 |
| ·NiTi合金表面改性技术 | 第11-13页 |
| ·a-C:F膜的性能特点 | 第13页 |
| ·a-C:F膜的制备技术 | 第13-18页 |
| ·a-C:F膜气体源沉积技术 | 第14-15页 |
| ·a-C:F膜固体源沉积技术 | 第15-18页 |
| ·a-C:F膜的应用 | 第18-19页 |
| ·a-C:F膜在生物医用领域的应用 | 第18-19页 |
| ·a-C:F膜在超大规模集成电路领域的应用 | 第19页 |
| ·本文的研究内容 | 第19-21页 |
| 第2章 a- C:F膜制备及表征方法 | 第21-35页 |
| ·a-C:F膜的制备方法 | 第21-23页 |
| ·磁控溅射原理及特点 | 第21-22页 |
| ·实验装置介绍 | 第22-23页 |
| ·a-C:F膜表征方法 | 第23-34页 |
| ·傅立叶红外吸收光谱 | 第24-26页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第26-27页 |
| ·Raman光谱 | 第27-29页 |
| ·X射线衍射分析 | 第29页 |
| ·纳米压痕技术 | 第29-32页 |
| ·原子力形貌分析 | 第32-33页 |
| ·电化学分析 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 a-C:F膜的制备实验 | 第35-42页 |
| ·实验方案设计 | 第35-39页 |
| ·溅射参数选定 | 第35-38页 |
| ·溅射工艺制定 | 第38-39页 |
| ·a-C:F膜的制备过程 | 第39-41页 |
| ·基片前处理 | 第39页 |
| ·溅射过程 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 a-C:F膜的结构和形貌表征 | 第42-68页 |
| ·a-C:F膜的红外光谱分析 | 第42-46页 |
| ·PTFE靶的红外光谱 | 第43页 |
| ·射频功率的影响 | 第43-45页 |
| ·Ar流量的影响 | 第45-46页 |
| ·沉积时间的影响 | 第46页 |
| ·a-C:F膜的X射线光电子能谱分析 | 第46-55页 |
| ·射频功率的影响 | 第48-53页 |
| ·Ar流量的影响 | 第53-55页 |
| ·Raman光谱分析 | 第55-59页 |
| ·射频功率的影响 | 第55-57页 |
| ·Ar流量的影响 | 第57-59页 |
| ·X射线衍射结构分析 | 第59-61页 |
| ·a-C:F膜表面形貌分析 | 第61-66页 |
| ·a-C:F膜原子力显微表面形貌分析 | 第61-62页 |
| ·射频功率的影响 | 第62-64页 |
| ·Ar流量的影响 | 第64-65页 |
| ·沉积时间的影响 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第5章 a-C:F膜的力学及腐蚀性能 | 第68-82页 |
| ·a-C:F膜的加载-卸载曲线 | 第68-69页 |
| ·射频功率对a-C:F膜力学性能的影响 | 第69-73页 |
| ·不同射频功率下a-C:F膜的加载卸载曲线特性 | 第69-71页 |
| ·不同射频功率下a-C:F膜的划擦行为 | 第71-73页 |
| ·Ar流量对a-C:F膜力学性能的影响 | 第73-75页 |
| ·不同Ar流量下a-C:F膜的加载卸载曲线特性 | 第73-75页 |
| ·不同Ar流量下a-C:F膜的划擦行为 | 第75页 |
| ·电化学分析 | 第75-81页 |
| ·开路电位-时间曲线 | 第76-78页 |
| ·极化曲线 | 第78-81页 |
| ·本章小结 | 第81-82页 |
| 结论 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-91页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第91-92页 |
| 致谢 | 第92页 |
