| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| ·光折变效应 | 第8-9页 |
| ·光折变理论基础 | 第9-10页 |
| ·光波耦合 | 第10-11页 |
| ·本文的主要工作 | 第11-12页 |
| 第二章 铋硅族氧化物及多重效应 | 第12-19页 |
| ·铋硅族氧化物特性 | 第12页 |
| ·多重效应下介电张量逆的变化量 | 第12-19页 |
| 第三章 二波耦合特性 | 第19-36页 |
| ·二波耦合 | 第19-20页 |
| ·不同切面的相对耦合强度特性曲线 | 第20-26页 |
| ·不同偏振态不同切面下的增益特性 | 第26-31页 |
| ·光强变化时的增益特性 | 第31-32页 |
| ·晶体厚度的优化 | 第32-36页 |
| 第四章 四波耦合特性 | 第36-49页 |
| ·四波混频 | 第36-37页 |
| ·不同偏振态、不同切面对相位共轭反射率的影响 | 第37-44页 |
| ·光强变化对相位共轭反射率的影响 | 第44-46页 |
| ·晶体厚度的优化 | 第46-49页 |
| 第五章 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |
| 作者简历 | 第52-53页 |