| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-11页 |
| 1 ZnO材料综述 | 第11-21页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第11-12页 |
| ·ZnO的光学和电学性质 | 第12-13页 |
| ·ZnO的其他性质及应用 | 第13-15页 |
| ·压电特性 | 第13页 |
| ·压敏特性 | 第13-14页 |
| ·ZnO禁带宽度的调节 | 第14-15页 |
| ·作为GaN的缓冲层 | 第15页 |
| ·ZnO的研究进展及发展前景 | 第15-16页 |
| ·薄膜制备技术概述 | 第16-21页 |
| ·脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD) | 第17页 |
| ·喷涂热分解(Spray Pyrolysis) | 第17-18页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第18页 |
| ·溶胶—凝胶(Sol-Gel) | 第18-19页 |
| ·化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition) | 第19页 |
| ·电子束反应蒸镀法(Reactive Electron Beam Evaporation) | 第19页 |
| ·磁控溅射法 | 第19-21页 |
| 2 ZnO薄膜的制备及分析方法 | 第21-30页 |
| ·薄膜制备方法 | 第21-24页 |
| ·射频磁控溅射的基本原理 | 第21-23页 |
| ·实验设备简介 | 第23-24页 |
| ·薄膜的分析方法 | 第24-30页 |
| ·X-射线衍射(XRD) | 第24-25页 |
| ·电子探针显微分析(EPMA) | 第25-26页 |
| ·透射光谱测量 | 第26-28页 |
| ·光致荧光光谱(PL) | 第28-30页 |
| 3 ZnO/MgO多量子阱的制备及光致荧光光谱分析 | 第30-42页 |
| ·ZnO/MgO多量子阱的制备及分析方法 | 第32-33页 |
| ·ZnO/MgO多量子阱的制备方法 | 第32页 |
| ·ZnO/MgO多量子阱的表征 | 第32-33页 |
| ·结果与分析 | 第33-41页 |
| ·ZnO/MgO多量子阱的结构与成分 | 第33-36页 |
| ·ZnO/MgO多量子阱的光致发光特性 | 第36-38页 |
| ·ZnO/MgO多量子阱的光致荧光光谱分析 | 第38-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 4 ZnO三元合金的制备及分析方法 | 第42-61页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO三元合金的制备及分析方法 | 第43-44页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO三元合金的制备 | 第43-44页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO三元合金的表征方法 | 第44页 |
| ·结果与分析 | 第44-54页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO三元合金的结构特性 | 第44-49页 |
| ·退火对Zn_(1-x)Mg_xO三元合金结晶性能的影响 | 第49-50页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO三元合金的能带特性 | 第50-53页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO三元合金的光致荧光光谱 | 第53-54页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO合金的小结 | 第54页 |
| ·Zn_(1-x)Cd_xO三元合金的制备及分析方法 #46_ | 第54-55页 |
| ·Zn_(1-x)Cd_xO三元合金的制备 | 第54-55页 |
| ·Zn_(1-x)Cd_xO三元合金的表征方法 | 第55页 |
| ·Zn_(1-x)Cd_xO薄膜特性分析 | 第55-60页 |
| ·Zn_(1-x)Cd_xO三元合金的结构特性 | 第55-58页 |
| ·Zn_(1-x)Cd_xO三元合金的光致荧光光谱 | 第58-60页 |
| ·Zn_(1-x)Cd_xO合金的小结 | 第60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
