| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 文献综述及论文设想 | 第10-32页 |
| ·NO_x的来源及危害 | 第10-12页 |
| ·NO_x的来源 | 第10页 |
| ·NO_x的危害 | 第10-12页 |
| ·DeNO_x研究的发展现状 | 第12-19页 |
| ·甲烷为还原剂的研究进展 | 第14-16页 |
| ·C_3H_6为还原剂的研究进展 | 第16-18页 |
| ·C_2H_2为还原剂的研究进展 | 第18-19页 |
| ·DeNO_x反应机理研究进展 | 第19-28页 |
| ·反应起始步骤的探讨 | 第19页 |
| ·反应中间物的研究 | 第19-24页 |
| ·反应机理的归纳研究 | 第24-28页 |
| ·DeNO_x反应影响因素 | 第28-31页 |
| ·酸性 | 第28-29页 |
| ·O_2浓度 | 第29-30页 |
| ·SO_2和H_2O | 第30-31页 |
| ·选题依据及论文设想 | 第31-32页 |
| 2 实验部分 | 第32-38页 |
| ·催化剂制备 | 第32-33页 |
| ·试剂原料 | 第32页 |
| ·载体及载体处理 | 第32页 |
| ·Y基催化剂 | 第32页 |
| ·Y_2O_3 | 第32-33页 |
| ·活性测试 | 第33-34页 |
| ·SCR反应活性测试 | 第33页 |
| ·NO氧化活性测试 | 第33页 |
| ·氮氧化物吸附及硝酸钇分解测试 | 第33页 |
| ·乙炔吸附、脱附测试 | 第33-34页 |
| ·催化剂表征 | 第34页 |
| ·紫外可见漫反射光谱表征(UV vis DRS) | 第34页 |
| ·NH_3程序升温脱附表征(NH_3-TPD) | 第34页 |
| ·X射线衍射光谱表征(XRD) | 第34页 |
| ·傅里叶变换红外光谱(FTIR) | 第34-36页 |
| ·氮氧化物吸附形态及其性质测定 | 第35页 |
| ·乙炔吸附形态及其性质测定 | 第35页 |
| ·反应条件下中间物测定 | 第35-36页 |
| ·反应装置图 | 第36-38页 |
| ·活性测定装置 | 第36页 |
| ·还原剂吸、脱附装置 | 第36-37页 |
| ·NO_x氧化及吸、脱附装置 | 第37-38页 |
| 3 ZSM-5型分子筛上乙炔还原NO的机理探讨 | 第38-58页 |
| ·NO氧化 | 第38-39页 |
| ·NO_x吸、脱附 | 第39-41页 |
| ·C_2H_2吸、脱附 | 第41-43页 |
| ·FTIR | 第43-57页 |
| ·骨架 | 第43-44页 |
| ·NO_x的吸附形态及NO活化机理 | 第44-48页 |
| ·C_2H_2的吸附形态及C_2H_2活化机理 | 第48-54页 |
| ·ZSM-5型分子筛上C_2H_2-SCR反应的机理 | 第54-57页 |
| 小结 | 第57-58页 |
| 4 钇对HZSM-5上C_2H_2-SCR的影响 | 第58-75页 |
| ·Y/HZSM-5催化剂的HC-SCR性能 | 第58-60页 |
| ·C_2H_2为还原剂的SCR反应 | 第58-59页 |
| ·CH_4、C_3H_6为还原剂的SCR反应 | 第59-60页 |
| ·催化剂表征 | 第60-63页 |
| ·XRD表征 | 第60-61页 |
| ·UV vis DRS表征 | 第61-62页 |
| ·NH_3-TPD表征 | 第62-63页 |
| ·钇对HZSM-5催化剂上C_2H_2-SCR反应促进作用的探讨 | 第63-74页 |
| ·C_2H_2在Y/HZSM-5催化剂上的吸附活化 | 第63-66页 |
| ·NO在Y/HZSM-5催化剂上的吸附活化 | 第66-74页 |
| 小结 | 第74-75页 |
| 结论 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-87页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第87-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
