| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-13页 |
| 第一章 概述 | 第13-32页 |
| ·超导材料简介 | 第13-14页 |
| ·高温超导材料的应用 | 第14-16页 |
| ·高温超导带材的发展 | 第16-20页 |
| ·实用化高温超导带材的要求 | 第16-17页 |
| ·第一代铋系高温超导带材 | 第17-18页 |
| ·第二代钇系高温超导带材 | 第18-20页 |
| ·金属基带的选择与制备 | 第20-23页 |
| ·金属基带的选择 | 第20-22页 |
| ·金属基带的制备方法 | 第22-23页 |
| ·过渡层材料的选择与制备 | 第23-26页 |
| ·过渡层材料的选择 | 第23-25页 |
| ·过渡层材料的制备方法 | 第25-26页 |
| ·YBCO涂层导体的研究现状 | 第26-29页 |
| ·论文选题及研究依据 | 第29-32页 |
| 第二章 实验方法与原理 | 第32-43页 |
| ·溅射制膜技术 | 第32-35页 |
| ·直流溅射 | 第32-33页 |
| ·直流反应磁控溅射 | 第33-34页 |
| ·直流反应磁控溅射薄膜微观结构的影响因素 | 第34-35页 |
| ·设备介绍 | 第35-37页 |
| ·薄膜的分析表征方法 | 第37-43页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第37-38页 |
| ·原子显微镜分析(AFM) | 第38-39页 |
| ·扫描电镜分析(SEM) | 第39-40页 |
| ·二次离子质谱分析(SIMS) | 第40-41页 |
| ·YBCO薄膜的电性能分析 | 第41-43页 |
| ·临界转变温度(T_c) | 第41-42页 |
| ·临界电流密度(J_c) | 第42-43页 |
| 第三章 CeO_2种子层制备研究 | 第43-68页 |
| ·溅射粒子轰击的影响 | 第43-48页 |
| ·实验条件 | 第43-44页 |
| ·溅射粒子轰击对CeO_2薄膜结构的影响 | 第44-47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| ·气氛的选择以及对薄膜的影响 | 第48-54页 |
| ·基带的氧化控制 | 第48-50页 |
| ·H_2O分压对CeO_2薄膜生长的影响 | 第50-52页 |
| ·实验条件 | 第50-51页 |
| ·H_2O分压对CeO_2薄膜生长结构的影响 | 第51-52页 |
| ·总气压对CeO_2薄膜生长的影响 | 第52-54页 |
| ·实验条件 | 第53页 |
| ·总气压对CeO_2薄膜生长结构的影响 | 第53-54页 |
| ·小结 | 第54页 |
| ·基片温度对CeO_2薄膜生长的影响 | 第54-59页 |
| ·实验条件 | 第55页 |
| ·基片温度对CeO_2薄膜结构的影响 | 第55-58页 |
| ·基片温度对CeO_2薄膜表面形貌的影响 | 第58-59页 |
| ·小结 | 第59页 |
| ·溅射功率对CeO_2薄膜生长的影响 | 第59-63页 |
| ·实验条件 | 第59-60页 |
| ·溅射功率对CeO_2薄膜结构的影响 | 第60-61页 |
| ·溅射功率对CeO_2薄膜表面形貌的影响 | 第61-63页 |
| ·小结 | 第63页 |
| ·均匀性研究 | 第63-68页 |
| ·两面结构一致性研究 | 第64-65页 |
| ·面内均匀性研究 | 第65-67页 |
| ·面内外织构均匀性 | 第65-66页 |
| ·表面形貌均匀性 | 第66-67页 |
| ·小结 | 第67-68页 |
| 第四章 YSZ阻挡层和CeO_2模板层的生长研究 | 第68-82页 |
| ·CeO_2种子层上YSZ阻挡层生长研究 | 第68-77页 |
| ·正交实验 | 第68-73页 |
| ·正交实验设计 | 第69-70页 |
| ·极差分析 | 第70-72页 |
| ·方差分析 | 第72-73页 |
| ·优化条件试验 | 第73页 |
| ·种子层薄膜对YSZ薄膜生长的影响 | 第73-76页 |
| ·阻挡层制备过程对种子层薄膜的影响 | 第76-77页 |
| ·YSZ/CeO_2/NiW上CeO_2模板层的制备研究 | 第77-81页 |
| ·小结 | 第81-82页 |
| 第五章 NiW基带上YBCO涂层导体生长初探 | 第82-95页 |
| ·基片温度的影响 | 第82-88页 |
| ·实验条件 | 第83页 |
| ·基片温度对结构的影响 | 第83-87页 |
| ·基片温度对薄膜形貌的影响 | 第87-88页 |
| ·基片温度对性能的影响 | 第88页 |
| ·溅射气压的影响 | 第88-91页 |
| ·氧分压对YBCO涂层导体的影响 | 第88-91页 |
| ·实验条件 | 第89页 |
| ·氧分压对YBCO涂层导体结构的影响 | 第89-91页 |
| ·总压对YBCO涂层导体的影响 | 第91页 |
| ·缓冲层的表面粗糙度对YBCO涂层导体的影响 | 第91-93页 |
| ·小结 | 第93-95页 |
| 第六章 涂层导体实用化研究 | 第95-134页 |
| ·薄膜电流承载能力研究 | 第95-120页 |
| ·不同厚度YBCO薄膜的制备及表征 | 第96-99页 |
| ·应力对YBCO薄膜性能的影响 | 第99-114页 |
| ·面外和面内晶格常数的计算 | 第100-105页 |
| ·不同厚度薄膜残余应力的测试 | 第105-113页 |
| ·应力对YBCO薄膜性能的影响 | 第113-114页 |
| ·多层结构优化YBCO厚膜的性能 | 第114-120页 |
| ·不同厚度中间层的影响 | 第116-118页 |
| ·不同层数中间层的影响 | 第118-120页 |
| ·低成本涂层导体的研制 | 第120-132页 |
| ·退火温度的影响 | 第121-126页 |
| ·实验条件 | 第121-122页 |
| 6 2 1.2 退火温度对CeO_2薄膜结构的影响 | 第122-124页 |
| 6 2 1.3 退火温度对CeO_2薄膜结构的影响 | 第124-125页 |
| ·退火温度与溅射功率的关系 | 第125-126页 |
| ·退火时间的影响 | 第126-129页 |
| ·实验条件 | 第126-127页 |
| ·退火时间对CeO_2薄膜的影响 | 第127-129页 |
| ·YBCO涂层导体的制备 | 第129-132页 |
| ·小结 | 第132-134页 |
| 主要结论和创新点 | 第134-137页 |
| 参考文献 | 第137-151页 |
| 致谢 | 第151-152页 |
| 作者简介 | 第152-153页 |
| 在读期间已发表和待发表的论文 | 第153-156页 |
| 已授权和申请中的专利 | 第156页 |
