| 摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-17页 |
| ·永磁薄膜材料 | 第7页 |
| ·稀土永磁薄膜材料 | 第7-14页 |
| ·稀土永磁薄膜材料的研究现状 | 第7-12页 |
| ·纳米复合稀土永磁薄膜材料 | 第8-9页 |
| ·各向异性稀土永磁薄膜材料 | 第9-12页 |
| ·Sm-Co 稀土永磁薄膜材料 | 第12-13页 |
| ·Sm(Co,Cu,Fe,Zr)x 稀土永磁薄膜材料 | 第13-14页 |
| ·成分对Sm(Co,Cu,Fe,Zr)x 稀土永磁材料的影响 | 第14-16页 |
| ·本课题研究的内容、目的及意义 | 第16-17页 |
| 第二章 薄膜样品的制备与分析方法 | 第17-30页 |
| ·磁控溅射装置 | 第17页 |
| ·磁控溅射基本原理 | 第17-21页 |
| ·溅射现象 | 第17页 |
| ·磁控溅射原理 | 第17-19页 |
| ·磁控溅射特点 | 第19-21页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第21-22页 |
| ·基片的清洗 | 第21页 |
| ·磁控溅射制备样品 | 第21-22页 |
| ·样品的结构及性能测试 | 第22-30页 |
| ·X 射线衍射仪（XRD）及工作原理 | 第23-24页 |
| ·振动样品磁强计（VSM）及工作原理 | 第24-28页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM）及工作原理 | 第28-30页 |
| 第三章 Cr/SmCo/Cr 薄膜的制备与性能研究 | 第30-41页 |
| ·溅射基本工艺参数 | 第30页 |
| ·Ar 气压强对溅射速率的影响 | 第30-31页 |
| ·XRD 结构分析 | 第31-36页 |
| ·磁性能分析（VSM） | 第36-38页 |
| ·断面形貌分析（SEM） | 第38-41页 |
| 第四章 W/SmCo/W 薄膜的研究 | 第41-50页 |
| ·溅射基本工艺参数 | 第41页 |
| ·XRD 结构分析 | 第41-44页 |
| ·磁性能分析（VSM） | 第44-46页 |
| ·断面形貌分析（SEM） | 第46-50页 |
| 第五章 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 攻读学位期间所取得的相关科研成果 | 第54页 |
