| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-16页 |
| §1.1 光子晶体及其制备方法 | 第6-10页 |
| §1.2 干法刻蚀技术概述 | 第10-15页 |
| §1.3 课题简介 | 第15-16页 |
| 第二章 反应离子刻蚀的基础知识 | 第16-21页 |
| §2.1 RIE中等离子体的产生 | 第16-18页 |
| §2.2 射频辉光放电解析 | 第18-21页 |
| 第三章 反应离子刻蚀机的系统设计 | 第21-40页 |
| §3.1 系统方案的提出及论证 | 第21-24页 |
| §3.2 系统结构设计 | 第24-31页 |
| §3.3 材料及部件的选配 | 第31-35页 |
| §3.4 系统参数 | 第35-38页 |
| §3.5 系统的安装使用 | 第38-39页 |
| §3.6 小结 | 第39-40页 |
| 第四章 RIE的刻蚀机理及刻蚀工艺研究 | 第40-46页 |
| §4.1 RIE的刻蚀机理 | 第40-43页 |
| §4.2 RIE的刻蚀工艺因素研究 | 第43-46页 |
| 结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 致谢 | 第50页 |