| 第一章 前言 | 第1-17页 |
| 参考文献 | 第15-17页 |
| 第二章 文献综述 | 第17-45页 |
| ·金刚石的结构、性质及其应用 | 第17-22页 |
| ·金刚石的结构 | 第17-18页 |
| ·金刚石的性质及应用领域 | 第18-22页 |
| ·CVD金刚石膜的国内外发展动态 | 第22-30页 |
| ·CVD金刚石膜的研究发展历程 | 第22-23页 |
| ·金刚石膜研究现状 | 第23-27页 |
| ·CVD金刚石膜的主要制备方法 | 第23-26页 |
| ·当今沉积工艺的主要研究方法 | 第26-27页 |
| ·国内外研究水平和发展趋势 | 第27-30页 |
| ·CVD金刚石膜的氧化研究进展 | 第30-35页 |
| ·金刚石的石墨化 | 第30-32页 |
| ·金刚石的高温氧化 | 第32-35页 |
| ·CVD金刚石膜的力学性能研究进展 | 第35-38页 |
| ·金刚石膜的断裂性能研究进展 | 第36-38页 |
| ·本文拟研究的方向及论文结构安排 | 第38-40页 |
| 参考文献 | 第40-45页 |
| 第三章 实验方法 | 第45-52页 |
| ·CVD金刚石膜的制备 | 第45-46页 |
| ·直流等离子体喷射CVD法金刚石膜的制备 | 第45-46页 |
| ·CVD金刚石膜的加工 | 第46页 |
| ·金刚石膜的抛光处理 | 第46页 |
| ·金刚石膜的激光切割 | 第46页 |
| ·金刚石膜氧化性能的实验装置 | 第46-48页 |
| ·TGA实验装置 | 第46-47页 |
| ·磁控溅射设备 | 第47页 |
| ·金刚石膜力学性能实验装置 | 第47-48页 |
| ·金刚石膜的表征方法 | 第48-51页 |
| ·光学显微镜 | 第48页 |
| ·体视显微镜 | 第48-49页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第49页 |
| ·激光Raman谱 | 第49页 |
| ·红外光谱(IR) | 第49页 |
| ·X-射线衍射 | 第49-50页 |
| ·透光偏振光显微镜 | 第50页 |
| ·原子力学显微镜(AFM) | 第50页 |
| ·光电子能谱(XPS) | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-52页 |
| 第四章 CVD金刚石膜的氧化损伤 | 第52-73页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·CVD金刚石膜的热失重(TGA)分析 | 第52-54页 |
| ·氧化对金刚石膜的表面形貌的影响 | 第54-59页 |
| ·金刚石膜的高温Raman散射光谱 | 第59-63页 |
| ·DC Arc Plasma Jet CVD金刚石膜中的杂质和缺陷 | 第63-69页 |
| ·小结 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-73页 |
| 第五章 高温氧化对金刚石膜的性能的影响 | 第73-90页 |
| ·引言 | 第73页 |
| ·高温氧化对高质量金刚石膜光学性能的影响 | 第73-82页 |
| ·高质量光学级金刚石膜 | 第73-75页 |
| ·氧化对金刚石膜红外透过率的影 | 第75-78页 |
| ·氧化对光学金刚石自支撑膜形貌的影响 | 第78-82页 |
| ·氧化对金刚石膜的热导率的影响 | 第82-84页 |
| ·氧化对金刚石膜的力学性能的影响 | 第84-87页 |
| ·小结 | 第87-89页 |
| 参考文献 | 第89-90页 |
| 第六章 影响CVD金刚石膜氧化性能的因素 | 第90-115页 |
| ·引言 | 第90页 |
| ·CVD金刚石膜的厚度的影响 | 第90-92页 |
| ·甲烷的浓度对金刚石膜氧化的影响 | 第92-99页 |
| ·金刚石膜形核面与生长面的影响 | 第99-104页 |
| ·CVD金刚石膜的择优氧化 | 第104-110页 |
| ·CVD金刚石膜的断裂强度与抗氧化能力的关系 | 第110-112页 |
| ·小结 | 第112-114页 |
| 参考文献 | 第114-115页 |
| 第七章 CVD金刚石膜氧化的动力学 | 第115-132页 |
| ·引言 | 第115页 |
| ·不同氧分压对金刚石膜的氧化的影响 | 第115-118页 |
| ·金刚石膜氧化动力学数据的重复性 | 第118-119页 |
| ·金刚石膜氧化动力学数据的解释 | 第119页 |
| ·反应的表观指数和激活能 | 第119-122页 |
| ·金刚石膜氧化反应的模型 | 第122-129页 |
| ·小结 | 第129-131页 |
| 参考文献 | 第131-132页 |
| 第八章 CVD金刚石膜的防护 | 第132-148页 |
| ·引言 | 第132-133页 |
| ·AIN薄膜的制备工艺 | 第133页 |
| ·薄膜沉积速率与沉积工艺的关系 | 第133-135页 |
| ·沉积速率与沉积功率的关系 | 第133-134页 |
| ·沉积速率与N_2的分压的关系 | 第134-135页 |
| ·沉积工艺参数与薄膜的择优取向的关系 | 第135-138页 |
| ·沉积功率的影响 | 第135-137页 |
| ·沉积气氛中N2的浓度的影响 | 第137-138页 |
| ·沉积工艺与组织形貌的关系 | 第138-141页 |
| ·AIN薄膜对光学性能的影响 | 第141-143页 |
| ·AIN薄膜的抗氧化性 | 第143-145页 |
| ·小结 | 第145-147页 |
| 参考文献 | 第147-148页 |
| 第九章 结论与建议 | 第148-152页 |
| ·结论 | 第148-151页 |
| ·建议 | 第151-152页 |
| 致谢 | 第152-153页 |
| 发表论文情况 | 第153-154页 |