| 第一章 绪论 | 第1-13页 |
| 第二章 软X射线多层膜理论基础 | 第13-38页 |
| 2．1 软X射线与物质的相互作用 | 第13-16页 |
| 2．1．1 原子散射因子 | 第13-14页 |
| 2．1．2 软X射线波段的光学常数 | 第14-16页 |
| 2．2 多层膜反射理论 | 第16-23页 |
| 2．2．1 软X射线在理想多层膜系中的反射 | 第16-18页 |
| 2．2．2 软X射线在非理想膜系中的反射 | 第18-23页 |
| 2．3 材料选择 | 第23-25页 |
| 2．4 基片选择 | 第25-28页 |
| 2．5 多层膜性能模拟计算 | 第28-37页 |
| 2．6 本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 镀膜技术及膜厚控制方法 | 第38-47页 |
| 3．1 镀膜技术 | 第38-44页 |
| 3．1．1 电子束蒸发离子束辅助镀膜技术 | 第38-39页 |
| 3．1．2 溅射镀膜技术 | 第39-44页 |
| 3．2 膜厚控制方法 | 第44-46页 |
| 3．3 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 薄膜生长 | 第47-54页 |
| 4．1 表面吸附 | 第47-48页 |
| 4．2 成核过程 | 第48-51页 |
| 4．3 膜的生长 | 第51-53页 |
| 4．4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 软X射线多层膜的制备 | 第54-74页 |
| 5．1 工艺因素分析 | 第54-58页 |
| 5．1．1 基片检测及处理 | 第54页 |
| 5．1．2 真空度 | 第54-57页 |
| 5．1．3 沉积速率 | 第57页 |
| 5．1．4 基片温度 | 第57-58页 |
| 5．2 工艺因素优选 | 第58-70页 |
| 5．2．1 单层Mo膜及单层Si膜表面粗糙度与束流电压的关系 | 第59-67页 |
| 5．2．2 界面扩散分析 | 第67-70页 |
| 5．3 薄膜成分分析 | 第70-72页 |
| 5．4 薄膜晶体结构分析 | 第72-73页 |
| 5．5 本章小结 | 第73-74页 |
| 第六章 多层膜特性检测 | 第74-80页 |
| 6．1 采用X射线衍射仪检测多层膜周期结构 | 第74-77页 |
| 6．2 软X射线反射率测量 | 第77-80页 |
| 第七章 软X射线多层膜在光学系统中的应用 | 第80-84页 |
| 7．1 软X射线显微术 | 第80-81页 |
| 7．2 软X射线投影光刻技术 | 第81-82页 |
| 7．3 软X射线望远镜 | 第82-84页 |
| 第八章 全文总结 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-93页 |
| 致谢 | 第93-94页 |
| 作者简历 | 第94-95页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第95页 |